在芯片制造領(lǐng)域，光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個(gè)形象的比喻，光刻機(jī)是芯片制造的魂，蝕刻機(jī)是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個(gè)東西都必須。

而在光刻機(jī)方面，與世界的7nm制程都相去甚遠(yuǎn)。不管三星、英特爾還是臺(tái)積電在芯片制程工藝方面如何去競(jìng)爭(zhēng)，但ASML終究是背后霸主，贏家，因?yàn)樗麄冋l(shuí)都離不開他的EUV光刻機(jī)。而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還在路上，目前我國(guó)已經(jīng)能夠使用365納米波長(zhǎng)的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無(wú)先例，它也被稱為世界上首臺(tái)分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)可以使用低成本光源，實(shí)現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式，對(duì)油墨涂層的均一性要求不是很高，只要能保證涂層能夠在蝕刻時(shí)對(duì)產(chǎn)品需保護(hù)部位得到充分的保護(hù)。

此工序和制作網(wǎng)板中的涂布工序差不多，只是制作網(wǎng)板是在網(wǎng)砂上涂感光油墨，而金屬蝕刻是直接在工件表面涂布

熱風(fēng)預(yù)烘干（30-40℃，10-15分）

目的只是防止曝光時(shí)感光油墨粘住菲霖。要在暗室中進(jìn)行操作。

曝光

高壓燈、碘燈、金屬鹵素?zé)簟?

時(shí)間：二十秒左右，抽真空；根據(jù)工件的精度要求適當(dāng)調(diào)整曝光時(shí)間。精度要求越高，曝光時(shí)間要適當(dāng)縮短

顯影

對(duì)于水光油墨，可采用1%碳酸鈉水溶液或直接用清水，溫度25-30℃，手工顯影或噴射顯影。

對(duì)于油光油墨，可采用進(jìn)行手工顯影或噴射顯影。

  蝕刻機(jī)

可以分為自動(dòng)型蝕刻機(jī)、激光蝕刻機(jī)、化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)。在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達(dá)到蝕刻的目的，化學(xué)蝕刻機(jī)是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)；自動(dòng)型化學(xué)蝕刻機(jī)是通過(guò)高壓噴淋及被蝕刻板直線運(yùn)動(dòng)形成連續(xù)不間斷進(jìn)料狀態(tài)進(jìn)行對(duì)工件腐蝕以提高生產(chǎn)效率蝕刻機(jī)是標(biāo)牌廠、電鍍廠、銘牌廠等生產(chǎn)高品位標(biāo)牌、獎(jiǎng)牌禮品、飾品、工業(yè)品電蝕刻及反蝕刻精密加工等必備的現(xiàn)代化設(shè)備。

蝕刻機(jī)能夠成套組成流水線，亦能夠單機(jī)完畢工序，是標(biāo)牌廠、電鍍廠、銘牌廠等出產(chǎn)高精度高品位標(biāo)牌、獎(jiǎng)牌禮飾品、工業(yè)品電蝕刻及反蝕刻精細(xì)加工等必備的現(xiàn)代化設(shè)備。

標(biāo)牌加工廠需求哪些設(shè)備

咱們見到的每一件產(chǎn)品上都有著自己的標(biāo)牌，這些形形的標(biāo)牌意味著標(biāo)牌加工廠具有廣闊的獲利空間，而依據(jù)標(biāo)牌的不同種類，能夠?qū)⑵浞譃榻饘儋Y料、木質(zhì)、有機(jī)玻璃以及塑料資料等，那么，開辦一家標(biāo)牌加工廠需求哪些設(shè)備呢？

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