與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質(zhì)結(jié)合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優(yōu)良，與基體結(jié)合牢固, 且工藝簡單，對環(huán)境污染小, 目前對其生長規(guī)律、生長機理和影響因素等已經(jīng)有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術。微弧氧化技術的突特點微弧氧化陶瓷技術是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長陶瓷層的高新技術。微弧氧化技術在現(xiàn)代工業(yè)中應用匯越來越廣泛。

微弧氧化技術工藝優(yōu)點

       微弧氧化處理既與電鍍鋅等消耗性陰極處理不同，可用非消耗性的不銹鋼作陰極，避免了重金屬離子從陰極溶入并隨廢水流出污染環(huán)境；又與電鍍硬鉻和重（或硬）陽極氧化等依靠消耗溶液中溶質(zhì)元素在被處理樣品表面形成保護膜層的工藝不同，微弧氧化處理主要在鋁、鎂等輕合金表面生成金屬自身氧化物的陶瓷層，理論上屬不消耗溶質(zhì)元素的處理工藝。因此該工藝可以被視為既不消耗陰極又基本不消耗電解液溶質(zhì)元素的清潔處理。提倡及時染色，如果這種情況已經(jīng)發(fā)生，可將工件放在陽極氧化槽中或xiao酸中和槽中適當活化處理后再進行染色，效果會很好。鎂合金微弧氧化處理、鈦合金微弧氧化處理、鋁合金微弧氧化處理

       微弧電子學的研究方向就是在電子回路中設置一個由兩極和工作氣體或液體組成的氣固或氣液固界面，通過調(diào)控兩極之間的電磁場模式，以使固體表面誘發(fā)出具有“納米微束”放電特征的微弧現(xiàn)象，進而實現(xiàn)固體表面物質(zhì)以“非熔發(fā)射”機制逐層剝離，再輔助以兩極之間的介質(zhì)約束，達到對固體材料表面原位改性、納米尺度逐層剝離、納米粒徑薄膜制備的目的。微弧氧化工藝的整流電源特點：操作方式:本控遠控操作模式可選擇。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術

微弧氧化時間對表莫粗糙度的影響

       微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度隨著氧化時間的延長近似呈線性增長。這是由于氧化膜的表面粗糙度與膜層的厚度有直接關系，而膜層的增厚過程是在極高的能量條件下陶瓷膜的重復擊穿過程。在氧化初期，作用在膜層上的能量較低，產(chǎn)生的熔融物顆粒較少，膜層的表面粗糙度較低；隨著時間的延長，膜層表面的能量密度逐漸增大，熔融的氧化產(chǎn)物增多，并通過微孔噴射到表面。在電解液液淬作用下，氧化物冷卻凝固，并發(fā)生多次擊穿。微弧氧化采用微弧氧化技術對鋁及其合金材料進行表面強化處理，具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強，生產(chǎn)效率高，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點。在這種熔融、凝固、再熔融、再凝固的過程中，產(chǎn)生的氧化物顆粒黏附在陶瓷層表面的數(shù)量增多，從而增大了膜層表面的粗糙度。另外，在成膜過程中同時存在氧化膜的溶解過程，因此，若時間足夠長，膜層在溶解過程中其表面粗糙度也會出現(xiàn)小幅度的下降。