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磁控濺射儀廠(chǎng)家詢(xún)問(wèn)報(bào)價(jià)「沈陽(yáng)鵬程」

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發(fā)布時(shí)間:2021-08-06 20:41  






磁控方箱生產(chǎn)線(xiàn)介紹

用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備?! ?

主要由真空室系統(tǒng)濺射室、靶及電源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、真空抽氣及測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)及輔助系統(tǒng)等組成。 

技術(shù)指標(biāo):  極限真空度6.7×10-5Pa,系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/S;  恢復(fù)真空時(shí)間:40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa(短時(shí)間暴露  大氣并充干燥氮?dú)夂箝_(kāi)始抽氣)  

鍍膜方式:磁控靶為直靶,向下濺射成膜;  樣品基片: 負(fù)偏壓 -200V  

樣品轉(zhuǎn)盤(pán):在基片傳輸線(xiàn)上連續(xù)可調(diào)可控,在真空下可輪流任意靶位互換工作。樣品轉(zhuǎn)盤(pán)由伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng),計(jì)算機(jī)控制其水平傳遞;  

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng),計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)的功能:對(duì)位移和樣品公轉(zhuǎn)速度隨時(shí)間的變化做實(shí)時(shí)采集,對(duì)位移誤差進(jìn)行計(jì)算,以曲線(xiàn)和數(shù)值顯示。樣品公轉(zhuǎn)速度對(duì)位移曲線(xiàn)可在線(xiàn)性和對(duì)數(shù)標(biāo)度兩種顯示之間切換,可實(shí)現(xiàn)換位鍍膜。

以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容,希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的知識(shí),歡迎撥打圖片上的熱線(xiàn)聯(lián)系我們。



小型磁控濺射儀的優(yōu)勢(shì)

設(shè)備主要優(yōu)勢(shì)    

實(shí)用性:設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,可以滿(mǎn)足客戶(hù)實(shí)驗(yàn)室空間不足的苛刻條件;通過(guò)更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換,實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用;

方便性:設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線(xiàn)及安裝調(diào)試簡(jiǎn)單,既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔;

高性?xún)r(jià)比:設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或國(guó)內(nèi)品牌,以國(guó)產(chǎn)設(shè)備的價(jià)格擁有進(jìn)口設(shè)備的配置,從而保證了設(shè)備的質(zhì)量及性能;

安全性:獨(dú)立開(kāi)發(fā)的PLC 觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能,保證了設(shè)備的使用安全性能;

期望大家在選購(gòu)磁控濺射產(chǎn)品時(shí)多一份細(xì)心,少一份浮躁,不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問(wèn)。想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊,歡迎撥打圖片上的熱線(xiàn)電話(huà)?。。?



磁控濺射介紹

以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供,今天我們來(lái)分享磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容,希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助!

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O),等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體(如陶瓷),則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強(qiáng)的電容,這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜,因而難大規(guī)模采用。為解決此問(wèn)題,發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶,加入氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕?。?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化,與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。1臺(tái)機(jī)械泵(4L/S),1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥,機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)(用于復(fù)合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺(tái),DN40旁抽氣閥1臺(tái),壓差式充氣閥1臺(tái)。



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