平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)的差別

平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)的差別論 平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)都是表面處理行業(yè)常用到的設(shè)備，雖然這兩者都是適用于平面的工件，但還是有很多不同的，接下來(lái)就從以下幾個(gè)方面來(lái)闡述它們之間的差別。 首先是用途上的差別，平面研磨機(jī)主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。而平面拋光機(jī)是處理平面工件的塌邊現(xiàn)象，平滑，斑點(diǎn)，祛除工件表面的劃痕，完成超精密加工使工件表面光滑以達(dá)到鏡面效果。 其次是工作原理的差別，平面研磨機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。而平面拋光機(jī)是通過(guò)發(fā)動(dòng)機(jī)帶動(dòng)磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)，并和在磨盤上自轉(zhuǎn)的工件產(chǎn)生摩擦，運(yùn)用摩擦產(chǎn)生切削力，將工件表面凹凸不平的地方磨平，來(lái)達(dá)到拋光目的。 很多對(duì)平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)分不清的朋友看完這篇文章應(yīng)該有所了解，明白這兩者的區(qū)別有哪些。平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)是表面處理的美化師，為我們呈現(xiàn)眾多不同的表面美觀的工件。

工件的大小對(duì)研磨難度的影響

工件的大小對(duì)研磨難度的影響 由于大工件在研磨時(shí)，所磨的面積比小工件要大很多，所以選擇的研磨盤，壓重塊等肯定也是要大很多的。大面積的工件在固定和加壓時(shí)，如果稍微有一點(diǎn)點(diǎn)受力不均勻，所受到的張力也就越大，容易產(chǎn)生斷裂。而小工件，這種壓力點(diǎn)不均勻的概率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于大尺寸工件，并且小工件平放受壓時(shí)所受張力沒(méi)那么大，不容易碎。 其次，我們進(jìn)行對(duì)比論證：400mm直徑的工件和30mm直徑的工件同時(shí)放在研磨拋光機(jī)上進(jìn)行研磨，面積小的比面積大的受力均勻，切削速度也要快一倍。而面積大的工件，磨削過(guò)程中由于受力面廣，效果不均勻的概率要大，所以更加難以實(shí)現(xiàn)效果。 后，我們舉一個(gè)實(shí)際的例子來(lái)進(jìn)行后說(shuō)明：我們從實(shí)驗(yàn)室拿兩塊厚度均等的硅片來(lái)做實(shí)驗(yàn)，硅片1，直徑500mm厚度1mm，硅片2，直徑20mm，厚度1mm，將他們同時(shí)放到13-6B雙面研磨機(jī)上進(jìn)行研磨。要求效果：平面度2u,平行度：2u，鏡面效果。開啟設(shè)備后，采用相同的研磨耗材對(duì)兩塊工件同時(shí)研磨，在研磨10分鐘后，硅片1，表面三項(xiàng)指標(biāo)均為達(dá)到；硅片2，達(dá)到。 由此三點(diǎn)，我們得出大小工件研磨難度有著很大差異性。在研磨要求均等的情況下，大工件較難實(shí)現(xiàn)一些，且所花的時(shí)間更長(zhǎng)一些。而小工件則較易實(shí)現(xiàn)，研磨效率也要高于大尺寸工件。

如何檢測(cè)平面拋光機(jī)加工工件的精度

如何檢測(cè)平面拋光機(jī)加工工件的精度 今天我們來(lái)介紹平面拋光機(jī)加工工件的精度檢驗(yàn)方法，平面拋光機(jī)加工的工件，平面的精度檢驗(yàn)是確定工件的平面度、平行度、垂直度以及工件的角度檢驗(yàn)。 1、平面度檢驗(yàn)，使用樣板平尺與被測(cè)平面垂直接觸的時(shí)候，需要光的情況來(lái)進(jìn)行平面度的誤差大小的判斷。 2、工件平行度的檢驗(yàn)，當(dāng)工件的基準(zhǔn)面的平行度符合一定要求的時(shí)候，幾點(diǎn)的厚度差值為工件的平行度的誤差。使用百分表或者是千分飚來(lái)檢驗(yàn)工件表面的平行度誤差。 3、工件表面精度檢測(cè)包括垂直度的檢驗(yàn)，可以使用直角尺或者是圓柱角尺進(jìn)行檢驗(yàn)。 4、工件表面垂直度的檢驗(yàn)，工件斜面與基準(zhǔn)面之間所存在的夾角可以用正弦規(guī)以及角度塊規(guī)組進(jìn)行檢驗(yàn)。