在芯片制造領域，光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領域的關鍵。在業(yè)界有個形象的比喻，光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個東西都必須。

而在光刻機方面，與世界的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背后霸主，贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產光刻機還在路上，目前我國已經能夠使用365納米波長的光生產22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產光刻機可以使用低成本光源，實現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

設備銷往世界各地：迪拜、泰國、越南、印尼、新加坡、西班牙等，公司主營：蝕刻機,標牌機,腐蝕機,大型熱轉印機,立體玻雕機、印刷設備等全系列新型數(shù)控標識設備、技術開發(fā)、專業(yè)培訓，是數(shù)碼標識配套設備供應商，公司產品連續(xù)多年榮獲山東消費者滿意單位稱號。

全自動型蝕刻機

增加了自噴與被蝕刻金屬片的合理總面積和蝕刻勻稱程度，不管在蝕刻實際效果、速度和改進作業(yè)者的自然環(huán)境及便捷程度，都好于潑濺式蝕刻; 經不斷試驗噴涌工作壓力在1-2 Kg/cm2的狀況下被蝕刻工件上所殘余的蝕刻圬漬能被合理清處掉，使蝕刻速度在傳統(tǒng)式蝕刻法上進一步提高，因為該蝕刻機液體可循環(huán)系統(tǒng)再造應用，該項可大大降低蝕刻成本費，也可做到環(huán)境保護生產加工規(guī)定。

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金屬蝕刻機作業(yè)原理及用途

金屬蝕刻機可加工化學蝕刻或CNC機械雕刻機不方便或難以加工的金屬工件，資料可所以鈦金屬、鈦合金或其他任何高硬度該耐酸性金屬。金屬蝕刻機的加工制造工藝在一般的制造類廣告公司中常常能夠看到。

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金屬蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。金屬蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻(dryetching)兩類。金屬蝕刻是由一系列復雜的化學過程組成，不同的腐蝕劑對不同金屬材料具有不同的腐蝕性能和強度。    蝕刻是金屬板模圖紋裝飾過程中的關鍵，要想得到條紋清晰、裝飾性很強的圖紋制品，必須注意控制好蝕刻工藝的條件。主要是蝕刻溶液的溫度和蝕刻時間。溶液溫度稍高，可以提高金屬溶解的速度，也就是蝕刻的速度，縮短蝕刻所需要的時間，但是蝕刻溶液一般都是強酸液，強酸液在溫度高的情況下腐蝕性強，容易使防護的涂層或耐蝕油墨軟化甚至溶解，使金屬非蝕刻部位的耐蝕層附著力下降，導致在蝕刻和非蝕刻交界處的耐蝕涂層脫落或溶化，使蝕刻圖紋模糊走樣，影響圖紋的美觀真實和裝飾效果，因此溫度不宜超過45℃。