真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設(shè)備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質(zhì)量。真空鍍膜設(shè)備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術(shù)。在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。由于真空熱處理時，工件基本不氧化，鋼件不脫碳，采用通氣對流加熱方式還可使加熱均勻，減少表面和心部的溫差，從而也減少畸變。目前它已成為工模具不可或缺和的熱處理工藝。

  在真空條件下加熱工件，主要依賴輻射。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢

真空鍍膜設(shè)備膜層表面有水跡、指紋及灰粒：(1)鍍件清洗后未充分干燥。應(yīng)加強鍍前處理。(2)鍍件表面濺上水珠或唾液。應(yīng)加強文明生產(chǎn)，操作者應(yīng)帶口罩。(3)涂底漆后手接觸過鍍件，表面留下指紋。5、真空鍍膜適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。應(yīng)嚴禁用手接觸鍍件表面。(4)涂料中有顆粒物。應(yīng)過濾涂料或更換涂料。(5)靜電除塵失效或噴涂和固化環(huán)境中有顆粒灰塵。應(yīng)更換除塵器，并保持工作環(huán)境的清潔。

材料經(jīng)過真空鍍膜機鍍膜之前，都是要進行清洗的，也就是大家目前常說的真空清洗工藝，真空鍍膜機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前，先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。從蒸發(fā)源到基片的屬距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。此外，由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。