溫度對微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。溶液電導率：溶液電導率對微弧氧化工業(yè)鋁型材的生長速度和致密度都有影響。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化電源

微弧氧化技術有哪些用途

       微弧氧化技術用于常規(guī)陽極氧化不能處理的特殊鋁基合金材料的表面強化處理。例如，汽車等各車輛的鋁基活塞，活塞座，汽缸及其他鋁基零部件；機械、化工工業(yè)中的各種鋁基模具，各種鋁罐的內壁，飛機制造中的各種鋁基零部件如貨倉地板，滾棒，導軌等；以及民用工業(yè)中各種鋁基五金產品，健身器材等。微弧氧化微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線

       微弧氧化產生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉變和結構轉變。在微弧氧化的過程下，原來生產的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的厚度。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術設備。經測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術優(yōu)勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源

微弧氧化技術

      在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在，因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能描述陶瓷層的形成。

      微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。如，航空、航天、汽車、船舶、機械、石油、化工、醫(yī)用、電子等行業(yè)。微弧氧化技術具有操作簡單和易于實現(xiàn)膜層功能調節(jié)的特點，而且工藝不復雜，不造成環(huán)境污染，是一項全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。