廢氣處理設備：光催化和生物凈化設備

   光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無毒無害的產物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。

   從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

廢氣處理設備的處理原理：低溫等離子體

   低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。

   低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消菌。低溫等離子體技術是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產生廢水、廢渣，不會導致二次污染。

廢氣處理設備的清理維護：

   定期清理廢氣處理設備不僅可以使設備正常運轉，還可以延長設備壽命。

   另外除了需要定時清理還需要 加強設備的檢修和加強設備的日常維護。檢修人員應每月全方面檢查一次所有凈化設施，根據(jù)實際情況決定檢修的內容、時間、要求及方法等。日常維護的主要任務是消除設備、管道、排氣罩；清掃孔、觀察孔等處的漏風、調節(jié)好系統(tǒng)的供液量、風量和風壓，排除一切可能產生故障的隱患。

   活性炭環(huán)保箱又名活性炭過濾器，其主要應用于有機廢氣處理，活性炭具有很細小的孔——毛細管，并有的吸附能力，活性炭表面積很大且能與氣體充分接觸并被毛細管所吸附。利用活性炭吸附作用除去異味，從而達到凈化空氣的效果?；钚蕴肯渲饕俏狡?，內含穿孔板、活性炭吸附層等部件。本裝置具有吸附、適用面廣、維護方便、能同時處理多種混合廢氣等優(yōu)點，活性炭有去除甲醛、苯、TVOC等有害氣體和消毒除臭等作用，活性炭吸附箱現(xiàn)廣泛用于電子元件生產、電池(電瓶)生產、酸洗作業(yè)車間、實驗室排風、冶金、化工廠、生產廠、涂裝車間、制鞋、橡膠、塑料、印刷、食品及釀造、家具生產等。