手機行業(yè)的PVD真空泵維修步驟技術

PVD的意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。

PVD鍍膜和PVD真空泵維修步驟

PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術的發(fā)展是快的，它已經(jīng)成為當今先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD真空泵維修步驟，指的也就是真空離子鍍膜機。

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真空泵維修步驟離子鍍膜技術

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD鍍膜膜層的特點,采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

真空泵維修步驟在信息薄膜加工中的應用

近些年北京大學和科學院北京真空物理實驗室重點研究有機復合薄膜的超高密度信息存儲器件，其制備的關鍵技術是納米厚度的高質(zhì)量功能薄膜。當今的薄膜形成過程中能夠保持真空純潔環(huán)境，故可以得到高質(zhì)量的薄膜。物理氣相沉積（PVD）技術主要有蒸發(fā)、濺射鍍、離子鍍、分束外延和離子團束鍍等。

在分析了真空方法制備有機功能薄膜的幾種技術后，經(jīng)比較認為，離子團束（ICB）沉積技術用于制備有機功能薄膜是適用的。它是將材料蒸發(fā)經(jīng)過絕熱膨脹過程，電離過程形成荷電原子團，經(jīng)歷加速被沉積到基底上。原子在基底表面具有較大的遷移率，這有利于薄膜的成核和晶粒生長，形成高質(zhì)量的薄膜，通過控制絕熱過程，電離電壓，加速電壓和基底溫度可以制成晶體、多晶或無定形薄膜。

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