ITO真空鍍膜設備生產特點

1)真空室體資料選用SUS304，真空室內壁進行拋光處理，外壁選用拋光后噴珠處理。

2)真空室之間選用獨立門閥-插板閥隔開，能夠完成有用隔斷，安穩(wěn)技能氣體?，F在咱們至成真空科技選用插板閥規(guī)劃，它比現在國內通用的翻板閥密封作用非常好，更經用。

3)傳動選用磁導向，確保傳動的安穩(wěn)性。整條出產線的各段速度選用變頻調速電機驅動，運轉速度可調理。

4)真空電鍍設備電氣操控體系：觸摸屏與PLC自動操控，人機對話辦法來完成體系的數據顯現、操作與操控

影響離子鍍膜層質量的工藝參數

①基片偏壓.

離子鍍膜基片施加負偏壓后；各種離子和高能中性粒子流以較高的能量轟擊基片表面．基片負偏壓的提高，會使基片表面獲得更高的能量，可能形成偽擴散層，提高膜層與基體的附著力，還可以改變膜層的組織、結構和性能，如細化晶粒，圖2表明，隨著基片負偏壓的提高，膜層組織變細，但是，基片負偏壓的提高也會產生一些不利的影響，如反濺射作用的增加，使膜層表面受到刻蝕，使表面光潔程度降低，圖3表明了空心陰極離子鍍鉻時，基片負偏壓對鉻膜表面光澤度的影響，基片負偏壓的提高還會使沉積速率降低，使基片溫度升高，圖4表明了電弧離子鍍tin膜基片負偏壓對沉積速率的影響，因此，應根據不同的離子鍍方法、不同的膜層及使用要求選擇適當的基片負偏壓。

②鍍膜真空度和反應氣體分壓.

離子鍍膜真空度對膜層組織、性能的影響與真空蒸鍍時的影響規(guī)律相似，但反應氣體分壓對反應離子鍍鍍制化合物膜的成分、結構和性能有直接的影響，圖5是hcd離子鍍tin膜的硬度與氮氣分壓的關系，因此反應氣體的分壓應根據離子鍍方法，化合物膜層的成分、性質、使用要求以及設備來選擇

③基片溫度.

離子鍍膜基片溫度的高低直接影響著膜層的組織、結構和性能。一般情況下，溫度的升高有利于提高膜層與基片的附著力，有利于改善膜層的組織與性能。但是，溫度過高，則會使沉積速率降低，有時還會使膜層晶粒粗大，性能變壞；圖6中hcd離子鍍鉻膜顯微硬度受基片溫度影響的規(guī)律。另外，基片溫度的選擇還要受基片材料性質的限制，如鋼材的回火溫度等

④蒸發(fā)源功率．

蒸發(fā)源功率對蒸發(fā)速率有直接的影響，進而影響沉積速率，影響膜層的組織、性能，對反應沉積化合膜時蒸發(fā)源功率也將影響膜層的成分。

為了獲得所需性能的膜層，應綜合分析、考慮各種因素，迭擇鍍膜方法和確定合理的鍍膜工藝參數。

真空鍍膜技術的優(yōu)點分析

真空鍍膜技術優(yōu)點表現在哪里？真空鍍膜技術在塑料制品上的應用廣泛，真空鍍膜機廠表示，塑料具有易成型，成本低，質量輕，不腐蝕等特點，塑料制品應用廣泛，但因其缺點制約了擴大應用。通過真空鍍膜技術的應用，使塑料表面金屬化，將有機材料和無機材料結合起來，大大提高了它的物理、化學性能。真空鍍膜技術優(yōu)點主要表現在以下幾個方面：

1、使塑料表面有導電性；

2、容易清洗，不吸塵。

3、改善美觀，表面光滑，金屬光澤彩色化，裝飾性大大提高；

4、減少吸水率，鍍膜次數愈多，孔愈少，吸水率降低，制品不易變形，提高耐熱性；

5、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過真空鍍膜技術，硬度及耐磨性大大增加；

6、可以提高耐候性，一般塑料在室外會老化的非?？欤饕蚴亲贤饩€照射所致，而鍍鋁后，鋁對紫外線反射強，所以耐候性大大提高。

新型磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝

磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝在鍍膜行業(yè)無處不在，只要說到鍍膜技術，大家都會立刻想到磁控鍍膜工藝，磁控濺射真空鍍膜機也受到了各大廠家的追捧，磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛，今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝。

其實從一般的金屬靶材濺射、反應濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業(yè)需求及新型磁控濺射技術的出現,低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領域的發(fā)展趨勢。低壓濺射的關鍵問題是在低壓(一般是指<011Pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規(guī)磁控濺射技術中不足以維持靶材表面的輝光放電,導致濺射沉積無法繼續(xù)進行。通過優(yōu)化磁場設計,使得電子空間運動距離延長,非平衡磁控濺射技術可以實現在10-2Pa等級的真空下進行濺射沉積。另外,通過外加電磁場約束電子運動可以實現更低壓強下的濺射沉積。進行高速沉積可以極大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實現高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時,不會產生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應提高等。目前,已經實現了靶材功率密度超過100W/cm2,沉積速率超過1μm/min。