在芯片制造領(lǐng)域，光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個(gè)形象的比喻，光刻機(jī)是芯片制造的魂，蝕刻機(jī)是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個(gè)東西都必須。

而在光刻機(jī)方面，與世界的7nm制程都相去甚遠(yuǎn)。不管三星、英特爾還是臺(tái)積電在芯片制程工藝方面如何去競(jìng)爭(zhēng)，但ASML終究是背后霸主，贏家，因?yàn)樗麄冋l(shuí)都離不開(kāi)他的EUV光刻機(jī)。而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還在路上，目前我國(guó)已經(jīng)能夠使用365納米波長(zhǎng)的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無(wú)先例，它也被稱為世界上首臺(tái)分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)可以使用低成本光源，實(shí)現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

光刻技術(shù)，重頭戲是物理技術(shù)，光刻的前道工序如涂膠，后道如顯影，都是化學(xué)技術(shù)，對(duì)機(jī)器要求不算高。唯獨(dú)曝光工序才是難的，其中難又在于光刻機(jī)，也就是一只巨型單反相機(jī)，其光源和鏡頭，還有控制技術(shù)估計(jì)已經(jīng)是人類的極限了，巨難做?？涛g說(shuō)得形象點(diǎn)就是沿著曝光圖形刻槽，化學(xué)成分比較大，并不算十分關(guān)鍵的設(shè)備，我朝的刻蝕機(jī)技術(shù)還是很不錯(cuò)的。

可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式，對(duì)油墨涂層的均一性要求不是很高，只要能保證涂層能夠在蝕刻時(shí)對(duì)產(chǎn)品需保護(hù)部位得到充分的保護(hù)。

此工序和制作網(wǎng)板中的涂布工序差不多，只是制作網(wǎng)板是在網(wǎng)砂上涂感光油墨，而金屬蝕刻是直接在工件表面涂布

熱風(fēng)預(yù)烘干（30-40℃，10-15分）

目的只是防止曝光時(shí)感光油墨粘住菲霖。要在暗室中進(jìn)行操作。

曝光

高壓燈、碘燈、金屬鹵素?zé)簟?

時(shí)間：二十秒左右，抽真空；根據(jù)工件的精度要求適當(dāng)調(diào)整曝光時(shí)間。精度要求越高，曝光時(shí)間要適當(dāng)縮短

顯影

對(duì)于水光油墨，可采用1%碳酸鈉水溶液或直接用清水，溫度25-30℃，手工顯影或噴射顯影。

對(duì)于油光油墨，可采用進(jìn)行手工顯影或噴射顯影。

金屬腐蝕前處理工藝主要有：感光蝕刻、絲網(wǎng)印刷、貼不干膠，每種工藝都有自己的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)，蝕刻加工廠家可根據(jù)自己產(chǎn)品的實(shí)際要求，選擇相對(duì)應(yīng)的工藝。下面我們就來(lái)具體講解這三種工藝的區(qū)別：

①感光蝕刻：顧名思義，感光蝕刻采用的就是曝光顯影的前處理方法，工藝流程：涂布/噴漆→烘烤→曝光→顯影→蝕刻→退膜→成品；感光蝕刻工藝適用于精度要求較高，如：不銹鋼過(guò)濾網(wǎng)蝕刻片、篩網(wǎng)、燈飾、表盤蝕刻、五金工藝品雙面鏤空等，而傳統(tǒng)的絲網(wǎng)印刷和貼不干膠，是很難達(dá)到這種要求的，且感光蝕刻前處理菲林膠片可以自己設(shè)計(jì)，成本低，可重復(fù)使用；

②絲網(wǎng)印刷：絲網(wǎng)印刷廣泛用于不銹鋼裝飾板、電梯板，廣告標(biāo)識(shí)標(biāo)牌行業(yè)，適用于一種圖案做一批產(chǎn)品，工藝流程：絲印→晾干/烤干→蝕刻→白化→退膜→洗板烘干→覆膜→成品；絲網(wǎng)印刷蝕刻工藝較為簡(jiǎn)單，蝕刻圖案較為簡(jiǎn)單，精度不高，成本也是的；

③貼不干膠：廣泛用于標(biāo)識(shí)標(biāo)牌廣告行業(yè)，貼不干膠特點(diǎn)就是方便后期上色（噴漆），不干膠圖案可自己在電腦輸出；工藝流程：貼不干膠→蝕刻→清洗→烘干→噴漆上色→高溫烘烤→撕掉不干膠→成品；