石英玻璃相比于普通玻璃的優(yōu)勢：

石英玻璃的電阻值相稱于普通玻璃的一萬倍，是極0好的電絕緣材料，即便在低溫下也具有精良的電功能。石英玻璃的電真空功能也很好，半導體產業(yè)是使用石英玻璃的高純度、耐溫性、低收縮等綜合功能，電光源產業(yè)使用石英玻璃的光透過率，電絕緣、電真空性、耐溫性和低收縮等綜合功能，是其他材料無法替換的。以二氧化硅為主要成分，具有耐高溫、膨脹系數(shù)低、機械強度高、化學性能好等特點，用于制造對各種波段透過有特殊要求的棱鏡、透鏡、窗口和反射鏡等。

影響光學玻璃清洗的因素有哪些呢？下面具體看看：

A，清洗工藝的技術關鍵：光學玻璃經(jīng)過清洗后能否達到表面不留任何油污，污跡，表面光滑，水膜完好！

B，影響清洗后光學玻璃質量的因素及相應的解決方法：

（1）玻璃本身的質量螺旋送料機及被污染的情況，主要為：表面有霉點，氣泡，劃傷等，在機械處理中，如：研磨，搽試，測應力時，人為導致的污染情況不一；

（2）清洗劑的選擇其能動及溫度，水質；我們采用非ODS的水類堿性清洗劑，主要由 水，堿，表面活性劑，防銹材料組成，化學式C3H8，具有側鏈的環(huán)狀烯烴，具有較強的 溶油能力；特點：低毒，不燃，清洗成本低等特點；

（3）溶液的濃度直接影響清洗度的大??； 通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間，若PH值大于箱式變壓站10，側表面活性物質作用要削弱，當PH 值大于12時，側清潔度下降。

（4）溶液溫度及浸泡時間也同高溫循環(huán)風機樣影響去污效率； 當溫度上升，溶液的反應速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脫離，但溶液的穩(wěn)定 度下降。若溫度過高，會在玻璃邊角上產生花紋。

（5）在清洗過程中，還應注意必須使用純水或去離子水，若使用自來水等硬水側很難除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na離子等雜質會在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜，污染玻璃；

（6）光學玻璃經(jīng)清洗后需漂洗，漂洗后的清潔度，除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關外，還與漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，溫度及循環(huán)使用的純水是否干凈有關；

（7）清洗環(huán)境的清潔程度；

（8）清洗后的干燥工藝及溫度： 應盡量保證玻璃垂直，可在玻璃下墊陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水印；烘箱溫度控制在70度左右，時間在20分鐘左右。若溫度過高，會在玻璃邊角上產生花紋。

光學玻璃的精密拋光的化學穩(wěn)定性

光學玻璃元件在制造和使用過程中，其拋光表面抵抗各種侵蝕性介質作用的能力稱為光學玻璃的化學穩(wěn)定性。

1 抗潮濕大氣作用穩(wěn)定性RC（S）(表面法)

根據(jù)對潮濕大氣作用的穩(wěn)定性，分為三級：

1級—在溫度50℃，相對濕度80％的條件下，光學玻璃拋光表面形成水解斑點的時間超過 20h；

2級—在相同試驗條件下，形成水解斑點的時間在5h～20h之間； 3級--在相同試驗條件下，形成水解斑點的時間不到5h。

光學玻璃

2抗酸作用穩(wěn)定性RA（S）(表面法)

根據(jù)對酸溶液作用的穩(wěn)定性，分為三級：

1級—在0.1N、溫度50℃醋l酸溶液作用下，光學玻璃拋光表面的破壞深度達135nm的時間 超過5h；

2級—在相同試驗條件下，破壞深度達135nm的時間在1h～5h； 3級--在相同試驗條件下，破壞深度達135nm的時間不到1h。

光學玻璃高精化的方法

 在線電解修銳法（Elect roly tic Inprocess Dressing , 簡稱ELID 法） 早期的在線電解休整磨削對光學玻璃進行加工的方法，其得到的光學玻璃材料表面仍存在一些亞表面損傷和微裂紋，這些表面缺陷可以通過游離的磨粒進行拋光而去除。因而，人們想找到一種更好的、能結合ELLD磨削的光整加工工藝。EL ID 磨削可用來進行硬脆材料的、率磨削,而MRF 可用來進行確定性形狀的修正與拋光。本文提出結合MRF 與EL ID 磨削的組合工藝對各種光學材料(如玻璃透鏡、碳化硅、硅晶玻璃等) 進行超精密加工的方法,即采用EL ID 磨削進行預拋光以率地獲得高質量表面,然后采用MRF 以進一步減小表面粗糙度和形狀誤差。紅外玻璃光學系統(tǒng)介紹作用：就是接收輻射能量，并把它傳送給探測器。利用該組合加工工藝可以在短時間內得到亞納米級的表面粗糙度和峰谷值為λ/ 20nm的形狀精度。由此可見，該方法是可取的。