箱式真空鍍膜機(jī)

采用箱式結(jié)構(gòu)，真空系統(tǒng)后置，便于操作和維修；整機(jī)表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內(nèi)做穿墻式安裝。

設(shè)備真空系統(tǒng)抽速大，具有抽氣時(shí)間短，真空度高，生產(chǎn)周期短等優(yōu)點(diǎn)。

采用管狀加熱器上烘烤，烘烤溫度均勻，壽命長，可達(dá)到烘烤溫度350℃，烘烤均勻性270℃±10℃。

工件轉(zhuǎn)動采用上部中心驅(qū)動，軸承帶水冷，磁流體密封，轉(zhuǎn)動平穩(wěn)可靠。

采用石英晶體膜厚控制儀，可實(shí)現(xiàn)鍍膜過程的自動控制。

采用先進(jìn)的鍍膜控制系統(tǒng)，人機(jī)操作界面美觀實(shí)用，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠，可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的手動、半自動和全自動操作。

適用范圍:用于生產(chǎn)IR-CUT濾光片、分色濾光片、高反射膜、AR膜、長波通、短波通和多種電學(xué)薄膜

鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題?

鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題？ 鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題？有專業(yè)業(yè)界人士認(rèn)為，流行的鍍膜方式主要集中在真空鍍膜，像原始的鍍膜手段和方式的機(jī)會不大，對此就鍍膜技術(shù)來說，從現(xiàn)代環(huán)保節(jié)能要求看，化學(xué)鍍膜手段的確遇到挑戰(zhàn)，現(xiàn)在物流環(huán)保的真空鍍膜技術(shù)已獲得非常大的發(fā)展，現(xiàn)代鍍膜廠的轉(zhuǎn)型便是證明。 事實(shí)上，在化學(xué)鍍時(shí)代，鍍膜發(fā)展已經(jīng)陷入重污染的困境，很多一線城市禁止高污染企業(yè)單位進(jìn)駐，一方面，加快環(huán)保鍍膜技術(shù)的研究有效解決問題，另一方面，剛出現(xiàn)的環(huán)保鍍膜技術(shù)也存在一些問題，在鍍膜技術(shù)快速發(fā)展的情況下，各家有實(shí)力的廠家都在積極的研發(fā)和探索。 不可否認(rèn)，鍍膜設(shè)備廠家一定要確實(shí)根據(jù)市場需求和社會環(huán)境要求來深度優(yōu)化產(chǎn)品，這樣才可市場占據(jù)有利地位。

真空鍍膜設(shè)備中頻磁控濺射知識

真空鍍膜設(shè)備中頻磁控濺射知識 源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。 不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。