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廈門(mén)光學(xué)鍍膜設(shè)備量大從優(yōu)

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-15 06:11  









真空鍍膜機(jī)真空的清洗方法,你知道嗎?


真空鍍膜機(jī)真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前,先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過(guò)程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的,因?yàn)橛晌廴疚锼斐傻臍怏w、蒸氣源會(huì)使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。此外,由于污染物的存在,還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

一.真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達(dá)到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(zhǎng)短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下,為了得到原子級(jí)清潔表面,加熱溫度必高于450度才行.加熱清洗方法特別有效。但有時(shí),這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果,可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^大的團(tuán)粒,并同時(shí)分解成碳渣


二.紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如,在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加.



真空鍍膜機(jī)的工作原理是怎樣的?


真空鍍膜機(jī)的運(yùn)用非常廣泛,涉入到各個(gè)行業(yè),也廣受大家喜愛(ài),那么它的工作原理是怎樣的呢?下面至成真空小編為大家詳細(xì)的介紹一下,希望能幫到大家:

真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備,真空離子蒸發(fā),光學(xué)鍍膜機(jī),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無(wú)光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,如果真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差?,F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過(guò)去自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。



真空鍍膜與光學(xué)鍍膜的區(qū)別


1、真空鍍膜是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)。而光學(xué)鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變材料表面的反射和透射特性。

2、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的,而光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。



高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)


真空蒸發(fā)鍍膜裝置,是在真空室中利用電阻加熱,將金屬鍍料熔融、汽化,讓金屬分子沉積在基片上,獲得光滑的高反射率的金屬膜層,達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。真空蒸發(fā)鍍膜裝置,是在真空室中利用電阻加熱,將金屬鍍料熔融、汽化,讓金屬分子沉積在基片上,獲得光滑的高反射率的金屬膜層,達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備具有結(jié)構(gòu)合理、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便,能耗低、工作穩(wěn)定,且膜層均勻、成膜質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等。

可鍍基材表面狀態(tài):電鍍亮面、啞光面(半啞、全?。?、工藝電鍍、拉絲、雨滴等;鍍制顏色有:金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等??筛鶕?jù)用戶要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。


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