金手指納米鍍膜 能在金、銀、鎢、鈷、鈀等不同表面形成2-10nm厚度左右的鍍層，從而使金屬表面具有良好的耐磨性、導(dǎo)電性能、耐腐蝕、耐高溫、防氧化及改變表面張力等特性，提升材料性能，改善產(chǎn)品品質(zhì)。金手指納米鍍膜此項(xiàng)技術(shù)主要有以下幾方面應(yīng)用：鍍膜探針；鍍膜金手指；減反射鍍膜:鍍膜技術(shù)是公司的核心技術(shù),即將開(kāi)始減反射鍍膜的布局。鍍膜 SOCKET；鍍銀LED支架；ATP 包裝材料；傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)及民用產(chǎn)品使用

納米鍍膜可以<300度C，使用不變色不會(huì)氧化。可以耐300度以下高溫不會(huì)出現(xiàn)氧化變色問(wèn)題，從而可以實(shí)現(xiàn)SMT工藝時(shí)免貼膠帶過(guò)爐，大大提高您的良品率，節(jié)省開(kāi)支，甚至可以用鍍銀取代鍍金。

晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題，具體見(jiàn)下。

主要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi)：

蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等

一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜：

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。

厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4、真空度

5、鍍膜時(shí)間，厚度大小。

組分均勻性：

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

晶向均勻性：

1、晶格匹配度

2、基片溫度

3、蒸發(fā)速率

瑞林（parylene）采用真空氣相沉積工藝制備(CVD)的0.1-100微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無(wú)、透明無(wú)應(yīng)力、不含助劑、不損傷工件、有優(yōu)異的電絕緣性和防護(hù)性，是當(dāng)代*有效的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。

電路板派瑞林（parylene）鍍膜加工

防潮、絕緣、防銹、耐化學(xué)腐蝕性、氣體阻隔性能*的派瑞林表面涂層，通過(guò)幾個(gè)微米的薄膜，形成一層無(wú)和可靠的保護(hù)膜。此外，通過(guò)薄膜發(fā)揮*的防潮性能，是室外設(shè)置LED照明、燈飾、移動(dòng)式顯示器等的輕量化的*選擇。