帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級(jí)階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠(yuǎn)不能與熱浸鍍、電鍍相比。阻礙帶鋼真空鍍膜發(fā)展的主要原因是生產(chǎn)率低，成本較高。有效的解決方法是開發(fā)研制高速，穩(wěn)定的高功率蒸發(fā)源。

大功率電子槍的開發(fā)和使用是帶鋼真空鍍膜中的關(guān)鍵技術(shù)。一般的真空蒸發(fā)鍍膜可以采用電阻加熱和感應(yīng)加熱。它的設(shè)備較簡(jiǎn)單，但加熱溫度和蒸發(fā)速率較低。要滿足連續(xù)式工業(yè)化生產(chǎn)鋼帶真空鍍膜的需要，就必須使用加熱速度快，熔化溫度高的熱源。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區(qū)分的。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進(jìn)行電泳涂敷，但電泳涂敷時(shí)工件表面必須有一掛點(diǎn)，掛點(diǎn)的修補(bǔ)不僅費(fèi)工費(fèi)時(shí)，而且質(zhì)量難以保證，而Parylene涂層技術(shù)可控制涂層厚度進(jìn)行無支點(diǎn)全涂敷防護(hù)。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個(gè)一個(gè)計(jì)數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標(biāo)準(zhǔn)，從而定制出潔凈室的等級(jí)。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門，也適合于真空對(duì)潔凈環(huán)境的要求。

塑料中含有水分、殘留溶劑、單體、低聚合物、增塑劑等，揮發(fā)性小分子會(huì)在真空或升溫環(huán)境下逸出表面，嚴(yán)重影響真空鍍層對(duì)基材的附著力，而采用底涂技術(shù)就可阻礙這些小分子的逸出，提高真空鍍層對(duì)基材的附著力。

塑料基材與真空鍍層通常為金屬)兩者熱膨脹系數(shù)相差很大，在真空鍍膜升溫、降溫過程中膜層容易，膜層越厚，的可能性越大，因此選用合適的涂層作為過渡層，可以減少內(nèi)應(yīng)力的積累和的發(fā)生

物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。*聚合生長的成膜方式阻止了離子在涂層和基板界面的擴(kuò)散，消除了常見的涂層下枝狀腐蝕。同時(shí)，物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們?cè)诟?jìng)相開發(fā)、高可靠性設(shè)備的同時(shí)，也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。