真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)突破性技術(shù)，利用物理或者化學(xué)方法并吸收一系列新技術(shù)而成的工藝，目的就是為了在實(shí)際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護(hù)層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。

為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長加工產(chǎn)品的使用壽命，不僅如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為顯著的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。

實(shí)際應(yīng)用中，我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產(chǎn)品，蒸發(fā)鍍主要用于塑膠產(chǎn)品，光學(xué)離子鍍主要用于璃玻產(chǎn)品。納米涂層在顯微鏡上觀察有多個(gè)納米顆粒組成，相臨的納米顆粒之間形成極細(xì)小的氣孔，氣孔遠(yuǎn)小于水分子，表面氣孔產(chǎn)生氣墊效應(yīng)，從而托住水分子，達(dá)到斥水斥油污的目的，同時(shí)由于顆粒之間的不平整，導(dǎo)致水滴在膜層表面的接觸角變大，使水滴輕易的滑落。真空電鍍?yōu)榇趴貫R射鍍，以電鍍不銹鋼產(chǎn)品材質(zhì)為主，可以電鍍金色、玫瑰金色、黑色、槍色、藍(lán)色等顏色，質(zhì)量穩(wěn)定，品質(zhì)保障。

真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等，如手表外殼鍍仿金色，機(jī)械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富。由于一層膜只能減少特定波長光的反射,減少較寬光譜的光線反射需要多層鍍膜,因而影響減反射膜效果的一個(gè)重要技術(shù)指標(biāo)是鍍膜的層數(shù)。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為發(fā)展前途的重要技術(shù)之一 ，鍍膜公司并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領(lǐng)域。

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，真空鍍膜對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。 鍍層厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90%。

手機(jī)真空防水鍍膜機(jī)蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的工作原理, 蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下通過電阻或電子束加熱鍍膜材料，使其原子或分子從表面蒸出，沉積到基片表面從而形成薄膜的技術(shù)，該技術(shù)具有使用范圍廣、薄膜厚度高度可控、技術(shù)成熟、成本低廉等特點(diǎn)。

真空蒸鍍技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于OLED、有機(jī)光伏、光學(xué)膜、新型半導(dǎo)體、裝飾鍍膜等領(lǐng)域，為一種鍍膜技術(shù)。