無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當選擇可以使這些影響較小。

Parylene是美國Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一種氣相沉積高分子聚合物材料，由獨特的真空氣相沉積工藝制備，能涂敷到各種形狀的表面，號稱“無孔不入”，被業(yè)內(nèi)稱為好的防潮、防霉、防腐、防鹽霧的特殊防護涂層。Parylene可分為N型、C型、D型、F型、HT型等多種類型

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進行光學鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問題。

　派瑞林原料c的作用都有哪些？

　　派瑞林原料c是獨特的聚對二甲苯聚合物。其可在真空下氣相沉積，具有良好的穿透力，能給元件提供完整的防護涂層，具有非常廣泛的應(yīng)用。本文將主要介紹派瑞林原料c材料在領(lǐng)域的應(yīng)用。

　　派瑞林原料c材料分類

　　根據(jù)分子結(jié)構(gòu)的不同，派瑞林原料c可分為C、D、N、F、HT型等多種類型，每種類型都具有不同的特性：

　　派瑞林原料cC綜合了優(yōu)良的介電性能和物理機械性能，對潮濕和腐蝕性氣體有的滲透性，可以提供真正的無覆形隔離，是涂敷重要電路板的材料；

　　派瑞林原料cD在較高溫度下仍有優(yōu)良的介電性能和物理機械性能，有較高的穩(wěn)定性；

真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。

隨著科技和經(jīng)濟的提升，各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設(shè)備在不斷的增加，其功能也越來越完善。

真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，在與待鍍工件形成薄膜的過程中，可以地測量和控制蒸發(fā)或濺射成膜材料的膜厚，從而保證膜厚的均勻性。磁控鍍膜機的真空鍍膜技術(shù)的特點主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學氣相沉積。