鋅和銅、鐵哪個(gè)好

銅，鋅，鐵著三種金屬，鋅活性高，但是也耐腐蝕，銅次之，鐵容易銹蝕。2、其次，鋅合金壓鑄過(guò)程中,由于冷卻時(shí)工件表面溫度不一致,鋅合金表面易產(chǎn)生成份偏析現(xiàn)象,表面局部富鋅或富鋁。原因是純凈的鋅在空氣中很快就生成一層堅(jiān)硬的氧化膜阻斷跟空氣接觸而防止進(jìn)一步被腐蝕、當(dāng)氧化膜被破壞后又會(huì)重新生產(chǎn)新的氧化膜，但是鋅的剛性遠(yuǎn)遠(yuǎn)不及鐵，所以很多鐵的產(chǎn)品選擇在其表面鍍鋅來(lái)提高它的防腐能力、如電力輸送的鐵塔、我們常用的螺絲等。八溢自動(dòng)化設(shè)備有限公司生產(chǎn)的等離子自動(dòng)拋光打磨機(jī)機(jī)是解決自動(dòng)拋光打磨機(jī)這方面問(wèn)題、只需普通工人做上下掛即可、拋光去毛刺同時(shí)進(jìn)行。而且是做整體拋光、提升整個(gè)產(chǎn)品品質(zhì)。

為什么鋅合金都需要表面涂層

鋅合金雖然有很多優(yōu)勢(shì)、但鋅合金比較活潑、在常溫下容易給空氣中的水、氧氣的發(fā)生氧化、導(dǎo)致鋅合金表面腐蝕、脫落、變形、導(dǎo)致鋅合金零件組織腐蝕變化、喪失它的功能、使用鋅合金都需要用涂層來(lái)防護(hù)鋅合金直接和空氣接觸。第二條原則當(dāng)然是除蠟效果,在說(shuō)明書要求的前提下,除蠟速度快、易清洗的除蠟水宜選用。涂層可以是烤漆、可以是水鍍涂層、也可以是真空鍍膜涂層。

八溢自動(dòng)化設(shè)備有限公司主要是生產(chǎn)的等離子自動(dòng)拋光打磨機(jī)設(shè)備、可以有效對(duì)鋅合金拋光、去毛刺、環(huán)保無(wú)污染、環(huán)境干凈舒適、無(wú)粉塵、無(wú)噪音，是當(dāng)今理想的拋光設(shè)備。

鋅合金的特點(diǎn)

1. 比重大，有質(zhì)感。

2. 鑄造性能好，可以壓鑄形狀復(fù)雜、薄壁的精密件，鑄件表面光滑、不粗糙、容易做后工序處理。

3. 可進(jìn)行表面處理：電鍍、噴涂、噴漆、工藝不復(fù)雜。

4. 熔化與壓鑄時(shí)不粘模。對(duì)模具的損傷小、大大提升模具的使用壽命

5. 有很好的常溫機(jī)械性能和耐磨性。切記在高溫和低溫下使用鋅合金。

6. 熔點(diǎn)低，在385℃熔化，容易壓鑄成型。

八溢自動(dòng)化設(shè)備有限公司主要是生產(chǎn)的等離子自動(dòng)拋光打磨機(jī)設(shè)備、可以有效對(duì)鋅合金拋光、去毛刺、披鋒、環(huán)保無(wú)污染、環(huán)境干凈舒適、無(wú)粉塵、無(wú)噪音，是當(dāng)今理想的拋光設(shè)備。

鋅合金底層鍍銅采用qing化鍍銅加焦磷酸鹽鍍銅加硫酸鹽光亮鍍銅的工藝。

鋅合金底層鍍銅采用qing化鍍銅加焦磷酸鹽鍍銅加硫酸鹽光亮鍍銅的工藝。

選擇半光亮鎳 光亮鎳 鎳封這類鍍鎳工藝半光亮鎳：在具有良好導(dǎo)電性和覆蓋能力的瓦特鎳 液中加入適當(dāng)?shù)牟缓虻墓饬羷?，組成半亮鎳鍍液，與光亮鎳層之間產(chǎn)生適當(dāng)?shù)碾娢徊?/span>

（80mv～130mv）達(dá)到電化保護(hù)之目的。Zamak3號(hào)鋅合金流動(dòng)性好、運(yùn)用于機(jī)械性能要求不高的鑄件、如玩具、燈飾、裝飾品。半亮鎳層膜厚可控制在 2/3 總膜層（約 10μ m 左右） 較為理想。光亮鎳：膜層厚度占總鎳層厚約 1/3 左右（即 5μ m 左右）。二層間產(chǎn)生的電位 差使得雙層鎳由單層鎳的縱向腐蝕轉(zhuǎn)變?yōu)闄M向的腐蝕，達(dá)到保護(hù)銅層及以下鋅合金基體的作用。

鎳封：在普通的光亮鎳溶液中，加入某些非導(dǎo)體微粒，微粒直徑在 0.1～1μm（微米） 的不溶性固體如 SiO2

      等，通過(guò)攪拌使這些微粒懸浮在鍍液中，在適當(dāng)?shù)墓渤练e促進(jìn)劑幫助下，使這些微粒與鎳發(fā)生共沉積而

      形成鎳與微粒組成的復(fù)合鍍層。在后續(xù)鍍鉻時(shí)，由于復(fù)合 鍍層表面上的微粒不導(dǎo)電，鉻不能在微粒表面

       沉積，使鉻層上形成大量微孔，即所謂微孔鉻。

八溢自動(dòng)化設(shè)備有限公司主要是生產(chǎn)的等離子鋅合金拋光設(shè)備、可以有效對(duì)鋅合金拋光、去毛刺、披鋒、環(huán)保無(wú)污染、環(huán)境干凈舒適、無(wú)粉塵、無(wú)噪音，是當(dāng)今理想的拋光設(shè)備。

鎳封層的微粒密度在 1.5 萬(wàn)～3 萬(wàn)/Cm2 為理想。微孔鉻表面存有的大量微孔，可在很大程 度上消除普通

     鉻層中的內(nèi)應(yīng)力，因而減少了鉻層的應(yīng)力腐蝕，尤為重要的是鉻層上的大量微孔將鉻層下面的光亮鎳大面

    積地暴露出來(lái)，在腐蝕介質(zhì)作用下，鉻與鎳組成電池，鉻層為陰 極，微孔處暴露的光亮鎳為陽(yáng)極而遭腐

    蝕。從而改變了大陰小陽(yáng)極的腐蝕模式，使得腐蝕

電流幾乎被分散到整個(gè)光亮鎳層上，從而防止了產(chǎn)生大而深的直貫基體金屬的少量腐蝕溝紋 和凹坑，并使鍍層的腐蝕速度減小，且向橫向發(fā)展，因而保護(hù)了基體，顯著地提高了鍍層的耐腐蝕性能。