鍍鎳液中銅雜質(zhì)含量低可使低電流密度區(qū)鍍鎳層灰暗、粗糙；含量高可使低電流密度區(qū)鍍層發(fā)黑，出現(xiàn)海綿狀鍍層。一般光亮鍍鎳液中銅雜質(zhì)含量不允許超過(guò)0.01g/L；普通鍍鎳液由于pH值稍高，也不能超過(guò)0.3g/L。對(duì)少量銅雜質(zhì)鍍鎳液，可用電解法去除（pH＝2左右，Dk＝0.1A/dm2～0.3A/dm2）。較多銅雜質(zhì)可用亞鐵qing化鈉化學(xué)方進(jìn)行處理：  

   2Cu2＋＋Na4[Fe(CN)6]→Cu2[Fe(CN)6]↓十4Na＋

化學(xué)沉鎳處理鎳層呈灰黑色或有黑條紋

產(chǎn)生原因

鍍液內(nèi)有Pb2 、Zn2 、Cu2 、N03-等離子。一旦這些雜質(zhì)含量超過(guò)允許范圍，鍍層不但出現(xiàn)脆裂，甚至?xí)瑰儗映驶液谏蛴泻跅l紋。當(dāng)Pb2 含量超過(guò)7 mg/L時(shí)，鍍件凹處及捆扎零件的鉛線處，不但無(wú)鍍層，而且呈灰黑色。zn2 含量超過(guò)0.02g/L時(shí)，鍍層會(huì)出現(xiàn)斑馬式的黑色條紋。Cu2 含量超出0.01～0.03g/L范圍時(shí)，低電流密度區(qū)就出現(xiàn)暗黑色的粗糙鍍層。

排除方法

Zn2 、Cu2 等可用瓦楞鐵皮作陰極，以0.1～0.5 A/dm2的小電流進(jìn)行電解處理，或加除雜水去除。Pb2 在pH為6.2時(shí)會(huì)生成Pb(OH)2沉淀，過(guò)濾即可除去，后用0.1 A/dm2小電流電解2 h。按2.1.4.2除去N03-。

無(wú)電解鍍鎳是一種可以在不通電的情況下完成金屬表面鍍鎳的工藝操作，為保證無(wú)電解鍍鎳品質(zhì)，操作過(guò)程中需要注意一些細(xì)節(jié)，今天淄博百美金屬表面加工有限公司為大家介紹一下無(wú)電解鍍鎳操作中須注意事項(xiàng)。

1、無(wú)電解鍍鎳工藝要注意密閉操作，加強(qiáng)場(chǎng)所內(nèi)通風(fēng)，操作人員須經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)培訓(xùn)，并佩戴專(zhuān)業(yè)防塵口罩、防護(hù)眼鏡和防護(hù)服，嚴(yán)格遵守操作規(guī)程操作。

2、搬運(yùn)原料時(shí)要輕裝輕卸，防止包裝及容器損壞，并配備泄漏應(yīng)急處理設(shè)備，做好應(yīng)急措施。

3、將原料儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)的庫(kù)房，為防止只火災(zāi)發(fā)生，應(yīng)要遠(yuǎn)離火種和熱源。