但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

化學(xué)組分上的均勻性：

就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

行業(yè)內(nèi)通常所說(shuō)的“IP”（ion plating）離子鍍膜，是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過(guò)程并起到重要作用，為了強(qiáng)調(diào)離子的作 用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。離子源,需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用耗材三,設(shè)備日常維修保養(yǎng)部件需要根據(jù)機(jī)臺(tái)型號(hào)選用四,光學(xué)鍍膜機(jī)臺(tái)品牌分玻璃機(jī)和塑膠機(jī)配置不一樣,尺寸可以選擇,900mm,1100mm,1300mm,1350mm,。

為什么真空鍍膜的鍍鋁不導(dǎo)電？因?yàn)殄兡た偣灿腥龑?，外層的UV光油經(jīng)UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用，但是一旦這層膜被破壞就導(dǎo)電了。

真空鍍膜技術(shù)是近年發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù)。它的原理是金屬固體(如鋁線等)在高真空狀態(tài)下受熱氣化，再以分子或原子形態(tài)沉積在基材表面，從而在鍍件表面形成一層薄薄的金屬膜。由于金屬氣化后均勻地分布于鍍膜機(jī)腔體內(nèi)，所以，通常情況下，鍍件表面形成的金屬膜十分均勻。它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的，因此兼有兩者的工藝特點(diǎn)。

真空電鍍加工五金真空鍍膜公司

真空電鍍加工怎么進(jìn)行環(huán)保呢？

一、真空鍍膜加工的鍍層厚度均勻致密。 無(wú)論工件如何復(fù)雜，均可在工件上得到均一鍍層，其鍍層精度可達(dá)±1微米。

二、各種基體材料均可處理，包括金屬、半導(dǎo)體及非金屬。

三、與金屬件結(jié)合強(qiáng)度高 一般強(qiáng)度在350-450MPa自然狀態(tài)下不起皮、不脫落。即可保持金屬基件原有的機(jī)械性能，又 增加了鍍件的耐磨性、耐腐蝕性。

四、耐腐蝕性強(qiáng) 金屬件經(jīng)表面處理后，由于表面形成了一種非晶態(tài)鍍膜層，因?yàn)闊o(wú)晶界，所以抗腐蝕性能 優(yōu)良。例如：在5%HCI中，含P質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10.9%鎳磷合金鍍層的耐腐蝕層比ICr18Ni9Ti不銹鋼還高出 10

10%HCI中則高出20倍以上。