之后將抗蝕層清除，就可展現(xiàn)出蝕刻的成品樣子。燙金或者發(fā)黑都可以被用于突出圖案。金屬蝕刻制品上的圖案往往比傳統(tǒng)雕刻更方便而代價(jià)更少。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時(shí)，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時(shí)，在感光鼓表面靜電潛像是場(chǎng)力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。你都了解清楚了嗎？

導(dǎo)致的原因較多，通常考慮UV光是否正常，即曝光機(jī)是否工作正常。

預(yù)烘烤時(shí)間過(guò)長(zhǎng)也會(huì)導(dǎo)致顯影不凈。

蝕刻液有問(wèn)題或濃度較低等等都會(huì)導(dǎo)致時(shí)刻不凈。

總之就是從兩方面考慮：油墨有問(wèn)題，顯影液正常；油墨沒(méi)問(wèn)題顯影液異常；或者兩者都異常。

板子過(guò)顯影線的線速（即顯影時(shí)間）通常會(huì)影響，線速過(guò)快就會(huì)顯影不凈。

用肉眼一般也看得出來(lái)，也可以用低倍目鏡看。

對(duì)于不同曝光級(jí),物理顯影銀都呈顆粒狀.在較弱曝光級(jí),物理顯影銀顆粒數(shù)目多,堆積緊密,這也是影像區(qū)呈現(xiàn)親油性的主要原因.

隨著曝光量的增強(qiáng),銀顆粒數(shù)目逐級(jí)減少,影像的反射密度也逐級(jí)降低.這是因?yàn)殡S著曝光量的增加,乳劑層中化學(xué)顯影過(guò)程增強(qiáng),消耗了鹵化銀,降低了絡(luò)合銀離子的濃度,因而在物理顯影核層沉積形成的銀顆粒數(shù)量減少.在較強(qiáng)曝光區(qū),只有少量的物理顯影銀顆粒零散地分布在版材表面,銀影像密度只有0 18,版材表面變成了親水性.