微弧氧化膜的優(yōu)勢

       微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比， 這種膜的空隙率大大降低，從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響1、微弧氧化溶液溫度低時(shí)，氧化膜的生長速度較快，膜致密，性能較佳。目前，微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成，總膜厚可達(dá)100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化

微弧氧化工藝的整流電源特點(diǎn)：

操作方式:本控遠(yuǎn)控操作模式可選擇;

輸出控制方式:直流、單極脈沖或雙極脈沖輸出控制模式可選擇

恒流恒壓、恒功率三種控制模式可選擇

軟啟動時(shí)間:軟啟動工作時(shí)間可在0-2005范圍內(nèi)整定

整流方式:IGBT逆變軟開關(guān)整流,PWM脈沖步調(diào)制IGBT斬波

脈沖步調(diào)頻率范圍:1000-8000Hz;

人機(jī)操作界面:PLC彩色觸摸屏

主控制器：微弧氧化電源DSP微機(jī)數(shù)字觸發(fā)控制,PWM脈寬調(diào)節(jié)控制,脈沖移相分辨率≤1μ。

?鎂合金微弧氧化膜層性能檢測

      鎂合金微弧氧化膜層性能檢測主要從以下幾個(gè)方面進(jìn)行：外觀檢測、厚度測定、硬度測定、表面處理層與基體結(jié)合力、耐蝕性能評價(jià)以及耐磨性測定等。（a)直接電泳電泳層表面高低不平，與基體間存在明顯的分界線，且界面處有大量氣孔。經(jīng)微弧氧化后，借助天然散色光或在日光下目測檢驗(yàn)，觀察氧化層的孔隙大小、色澤均勻程度、有沒有斑點(diǎn)、脫皮等現(xiàn)象。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)設(shè)備

微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于哪些方面？

       目前微弧氧化技術(shù)根據(jù)其制備的膜層特性，在眾多領(lǐng)域有所應(yīng)用，如耐磨、耐腐蝕、耐高溫氧化、熱阻隔、生物活性、高阻抗等。尚有許多其他方面的應(yīng)用前景有待于進(jìn)一步挖掘。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因?yàn)閺纳晌飦砜矗趸X硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達(dá)到HV3000。如果根據(jù)材料本身的應(yīng)用范圍來講，鋁合金可能希望改善其表面耐磨、耐腐蝕等性能，鎂合金耐腐蝕性能較差，進(jìn)行微弧氧化多為提高其表面耐腐蝕性能，生物材料用鎂合金需提高其生物相容性。鈦合金用于航空航天領(lǐng)域需提高膜層的耐高溫性能及耐腐蝕性能，應(yīng)用于生物材料則通常需改善其生物活性。在一些電子元器件或電場中的器件，微弧氧化膜層可提高其絕緣特性。因此，微弧氧化技術(shù)應(yīng)用于何種領(lǐng)域需試環(huán)境而論。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源