微弧氧化膜層性能檢測(cè)

       微弧氧化膜層性能檢測(cè)儀器膜層的性能檢測(cè)包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。采用德禍流測(cè)厚儀對(duì)氧化陶瓷膜的厚度進(jìn)行檢測(cè)；微弧氧化設(shè)備、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、鋁合金微弧氧化、微弧噴涂。微弧氧化采用利用顯微硬度儀測(cè)量膜層表面顯微硬度曰利用環(huán)境掃描電子顯微鏡對(duì)微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察。微弧氧化設(shè)備、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；現(xiàn)在國內(nèi)的大部分脈沖電源都是采用兩個(gè)相互獨(dú)立的電源進(jìn)行疊加而組成的，在兩個(gè)電源之間加上切換裝置、控制正負(fù)脈沖電流的截止和導(dǎo)通。電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；第二步：將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；微弧氧化采用利用顯微硬度儀測(cè)量膜層表面顯微硬度曰利用環(huán)境掃描電子顯微鏡對(duì)微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察。溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化現(xiàn)象及特點(diǎn)

       在陽極氧化過程中，當(dāng)鋁合金上施加的電壓超過一定范圍時(shí)，鋁合金表面的氧化膜就會(huì)被擊穿。隨著電壓的繼續(xù)不斷升高，氧化膜的表面會(huì)出現(xiàn)輝光放電，微弧和火花放電燈現(xiàn)象。在微弧氧化的過程下，原來生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落，只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時(shí)間的延長，微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加，直至達(dá)到外加電壓所對(duì)應(yīng)的終厚度。也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色。

微弧氧化的發(fā)展

      由于微弧氧化是在陽極氧化膜被電ji穿的基礎(chǔ)上進(jìn)行的，所以在探討微弧氧化機(jī)理時(shí)我們要結(jié)合電ji穿理論的研究和發(fā)展，從而闡述微弧氧化基本原理。微弧氧化技術(shù)就是在電ji穿理論的基礎(chǔ)上加以研究和應(yīng)用的新型表面力一技術(shù)。自1932年Betz等觀察到電ji穿的現(xiàn)象以來，許多研究者都對(duì)電ji穿產(chǎn)生的原因 過各種各樣的假設(shè)和模型?？傮w上看，電ji穿理論經(jīng)歷了離子電流機(jī)理、熱作用機(jī)理、機(jī)械作用機(jī)理以及電子雪崩機(jī)理等不同的發(fā)展階段。了解電ji穿原理，對(duì)于研究微弧氧化機(jī)理，開發(fā)新的表面處理技術(shù)均有著重要的理論意義。溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線。