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微弧氧化生產(chǎn)線出售規(guī)格尺寸 日照微弧氧化電源

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發(fā)布時(shí)間:2020-10-29 06:28  






微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽(yáng)極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,克服了硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的缺陷,極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,韌性高,具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術(shù)具有操作簡(jiǎn)單和膜層功能可控的特點(diǎn),而且工藝簡(jiǎn)便,環(huán)境污染小,是一項(xiàng)全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù),在航空航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。2、氧化過(guò)的鋁因?yàn)橛辛艘粚尤趸妊趸ぃ阅透g,鋁氧化化學(xué)性質(zhì)比鋁更穩(wěn)定。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源


微弧氧化槽液

       微弧氧化主要針對(duì)鋁、鎂、鈦、等閥金屬(閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬)。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進(jìn)行,但由于酸性電解液對(duì)環(huán)境污染性較大現(xiàn)已較少使用。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等,在單一或者它們的復(fù)合電解液中,增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等,以達(dá)到提高膜層生長(zhǎng)速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化處理應(yīng)根據(jù)基體材料的種類選用合適的電解液體系。5~1g/L,CH3COONa2~3g/L,Na3VO31~3g/L。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)


微弧氧化現(xiàn)象及特點(diǎn)

       在陽(yáng)極氧化過(guò)程中,當(dāng)鋁合金上施加的電壓超過(guò)一定范圍時(shí),鋁合金表面的氧化膜就會(huì)被擊穿。隨著電壓的繼續(xù)不斷升高,氧化膜的表面會(huì)出現(xiàn)輝光放電,微弧和火花放電燈現(xiàn)象。在微弧氧化的過(guò)程下,原來(lái)生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落,只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中,脫落的表面可以繼續(xù)氧化,隨著外加電壓的升高,或時(shí)間的延長(zhǎng),微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加,直至達(dá)到外加電壓所對(duì)應(yīng)的終厚度。微弧氧化通過(guò)電源參數(shù)的靈活運(yùn)用,微弧氧化電解液的特殊匹配,在鈦合金零件表面原位制備微弧氧化陶瓷膜的強(qiáng)化處理,達(dá)到防腐、提高發(fā)射率、耐磨、高絕緣等性能要求。


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