控制好系統(tǒng)張力，開啟冷卻系統(tǒng)，避免薄膜受熱出現(xiàn)拉伸變形；精準(zhǔn)控制卷取速度、送鋁速度及蒸發(fā)舟加熱電流，以獲得產(chǎn)品要求的鋁層厚度；可預(yù)先在薄膜上涂布一定干量的底膠，并充分干燥，再經(jīng)真空鍍鋁，可提高鋁層與薄膜的結(jié)合力。而后在鋁膜上涂布一定量的保護(hù)樹脂，防止鋁層氧化變質(zhì)。經(jīng)此工藝形成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易變質(zhì)。


靶材輸入電流及濺射時(shí)間可以控制，容易得到高精度的膜厚。較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排?；迮c膜的附著強(qiáng)度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續(xù)表面擴(kuò)散而得到硬且致密的薄膜，同時(shí)此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。薄膜形成初期成核密度高，可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。靶材的壽命長，可長時(shí)間自動化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀，配合機(jī)臺的特殊設(shè)計(jì)做更好的控制及比較有效率的生產(chǎn)。

東莞市仁睿電子科技有限公司主營加工：光學(xué)鍍膜、光學(xué)玻璃鍍膜、光學(xué)鏡片鍍膜、真空光學(xué)鍍膜、光學(xué)真空鍍膜、染色加工、塑料染色加工、杯子漸變加工、塑料漸變加工、亞克力面板、視窗鏡片、PC手機(jī)殼。

通常光學(xué)鍍膜要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和光學(xué)鍍膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。