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真空鍍膜機的真空室該如何設計呢?
真空鍍膜機相比大家都存有疑惑,今天來討論一下的是關于真空鍍膜設備真空室的設計問題,要是您有興趣了解的話可以和寶瑞鈦金一起來看看下面的內(nèi)容。
真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或者化學方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜。
真空室是真空設備的一個主要組成部位,真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性,結構必須要合理,真空設備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進行的,材料對真空度的影響要小,設計不能馬虎,要注意一些問題。
柔性電子卷繞真空鍍膜設備
HCFLC系列卷繞鍍膜設備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品,傳感器,RFID標簽,智能玻璃,智能包裝等提供了一種非常有競爭力和成本效益高的薄膜涂層技術。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結構的應用,在滿足當今和未來市場需求的同時,成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。
HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無限的可能性,在安排多達六組可旋轉的旋轉器和機器的能力,應用大量的現(xiàn)場測量傳感器,使機器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn),同時又是非常靈活和靈活的,當作為一個研發(fā)機器使用。
這也使得該機成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板(FPCB)、LOW-E或智能玻璃等應用的??尚D磁控管,涂層寬度為2000毫米,可能的襯底輥直徑為500毫米,是高生產(chǎn)率的基礎。
此外,相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個過程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。
除了能夠在非反應濺射工藝的同時運行反應濺射工藝外,HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器,用于連續(xù)、準確地監(jiān)測所需的物理層特性,如層電阻率、反射率或透射比。
裝飾性真空鍍膜設備涂層的作用和要求
裝飾性真空鍍膜設備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術要求,可施涂底涂層和面涂層,或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護涂層等。這些涂層的主要作用是: 提高膜層的結合力。采用相同的鍍膜方法,在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜,可提高膜層的結合力。 降低鍍件表面的粗糙度,提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度,不一定厚度涂料的整平性,可以填補鍍件表面的缺陷,使鍍件表面達鏡面平整度。 能保護金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm,膜層的耐磨性和抗變色能力較差,施涂面涂層后,鍍膜層與外界不直接接觸,對鍍膜層能起保護作用。
維修真空鍍膜機一定要按照步驟操作
維修真空鍍膜機一定要按照步驟操作 首先我們要保證鍍膜機與地面充分接觸,擴散泵和油增壓泵加熱前必須接通冷卻水并開維持泵。擴散泵和增壓泵停止工作,維持泵半小時后才能關,1小時后斷水,但泵內(nèi)未冷卻至80℃以下時,不得切斷冷卻水,以防止泵芯燒毀。 擴散泵和增壓泵各留有備用水出口,若鍍膜機故障或停電必須開備用出口讓其冷卻擴散泵和增壓泵,鍍膜工作前必須接通全部設備冷卻進水,以防止電極和基體材料燒毀。設備各傳動轉軸真空密封處均采用“骨架式油封”密封形式,骨架式油封內(nèi)間均充以飽和油蒸汽壓很低的真空油脂和擴散泵油。使用一段時間即會損耗,必須以相同的真空油脂和擴散泵油充入,決不能用其他油品代替。