水平蝕刻機的設(shè)計，應(yīng)充份考慮到金屬產(chǎn)品的厚度，是半蝕刻多還是蝕穿的產(chǎn)品多。產(chǎn)品越薄，對蝕刻的要求也就越高，特別是厚度低于0.2mm以下的產(chǎn)品，由于板材比較薄，雖然是金屬，但還是表現(xiàn)出比較柔軟，容易出來卡板、變形等現(xiàn)像。因此在規(guī)劃設(shè)備時，要預(yù)估我們重點是做薄片還是厚片，要薄片比較多，那么傳動滾輪要比較密一點，而且上下滾輪數(shù)量必須對等。

      作為一臺精密蝕刻的蝕刻機，其核心就是噴淋泵，特別是不銹鋼蝕刻，若噴淋泵的壓力小于2.5kg/cm2,蝕刻液對不銹鋼表面作用所產(chǎn)生的黑膜將無法完全清除，導(dǎo)致的結(jié)果就是蝕刻速度慢，半蝕刻蝕刻底紋表面不夠光滑細膩，出現(xiàn)隨機粗糙，幾乎沒有規(guī)律可尋。

     其次蝕刻機的均勻性對蝕刻產(chǎn)品影響也比較大。蝕刻機的均勻要可以調(diào)節(jié)，那么就要讓噴淋管能實現(xiàn)獨立壓力控制，這樣根據(jù)不同尺寸的產(chǎn)品對壓力進行微調(diào)（大尺寸的板水池效應(yīng)大），從而得到一個較佳的均勻性。通常設(shè)備精度好不好，就是通過蝕刻均勻性好不好來衡量的。

      由于蝕刻是一個放熱 的化學(xué)反應(yīng)，所以完善冷卻系統(tǒng)是很有必要的，而且冷卻管表面積需要符合滿載的時的放熱量的及時冷卻，溫度不宜超過2度，超過2度以上還不能冷卻到設(shè)定溫度，說明設(shè)計冷卻盤的面積過小，滿載生產(chǎn)時會出現(xiàn)超溫導(dǎo)致必須停止生產(chǎn)。

光刻機和刻蝕機的區(qū)別:

刻蝕相對光刻要容易。光刻機把圖案印上去，然后刻蝕機根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓（或者叫硅片）上蓋上事先做好的光刻板，然后用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質(zhì)，易于腐蝕。

“刻蝕”是光刻后，用腐蝕液將變質(zhì)的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導(dǎo)體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕，形成半導(dǎo)體器件及其電路。

金屬蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。金屬蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻(dryetching)兩類。金屬蝕刻是由一系列復(fù)雜的化學(xué)過程組成，不同的腐蝕劑對不同金屬材料具有不同的腐蝕性能和強度。    蝕刻是金屬板模圖紋裝飾過程中的關(guān)鍵，要想得到條紋清晰、裝飾性很強的圖紋制品，必須注意控制好蝕刻工藝的條件。主要是蝕刻溶液的溫度和蝕刻時間。溶液溫度稍高，可以提高金屬溶解的速度，也就是蝕刻的速度，縮短蝕刻所需要的時間，但是蝕刻溶液一般都是強酸液，強酸液在溫度高的情況下腐蝕性強，容易使防護的涂層或耐蝕油墨軟化甚至溶解，使金屬非蝕刻部位的耐蝕層附著力下降，導(dǎo)致在蝕刻和非蝕刻交界處的耐蝕涂層脫落或溶化，使蝕刻圖紋模糊走樣，影響圖紋的美觀真實和裝飾效果，因此溫度不宜超過45℃。