化學氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點：

(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。

(3)薄膜與基體結(jié)合強度好，薄膜牢固。

(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。

(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數(shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分數(shù)降低到的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。

(5)由于鍍膜設備的不斷改進，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，從而大大地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。

(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。

蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物

質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。

膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。

　　塑料制品表面金屬化后，應用范圍將更加廣泛。束流沉積鍍，結(jié)合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術(shù)的離子表面復合處理技術(shù)，是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術(shù)。塑料件表面的真空鍍膜可分為功能性鍍膜和裝飾性鍍膜。作為功能性鍍膜，它可改善塑料件表面的物理、化學性質(zhì)，如可提高塑料件的尺寸穩(wěn)定性、導電性等；作為裝飾性鍍膜，可使塑料件表面具有金屬光澤并可根據(jù)實際裝飾的需要制作出不同的顏色，如金黃色、古銅色、金屬紅色、金屬綠色、金屬藍色等，具體可參見樣品展示。

      裝飾性真空鍍膜現(xiàn)已得到了越來越廣泛的應用，與人們的日常生活息息相關。大到飛機、汽車，小到化裝品、玩具，無一不有真空鍍膜的烙印。裝飾性真空鍍膜現(xiàn)已得到了越來越廣泛的應用，與人們的日常生活息息相關。