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寧波磁控多弧復(fù)合鍍膜設(shè)備量大從優(yōu)

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發(fā)布時間:2020-11-14 11:48  









真空磁控濺射鍍膜機(jī)用戶設(shè)置具體設(shè)置



按“用戶設(shè)置”鈕進(jìn)入真空磁控濺射鍍膜機(jī)的用戶設(shè)置界面,里面的數(shù)值除了時間參數(shù)可以根據(jù)機(jī)器運行情況作適當(dāng)調(diào)整外,其余參數(shù)經(jīng)調(diào)試設(shè)定后一般不作修改。各參數(shù)功能如下:

主輥加速時間設(shè)定:用于設(shè)定主輥從低速度0m/min加速至高速度400m/min的所需時間。單位:5秒。當(dāng)輸入數(shù)值為4時,加速時間是20秒。

主輥減速時間設(shè)定:用于設(shè)定主輥從高速度400m/min減速至低速度0m/min的所需時間。單位:5秒。

收卷張力零速保持:用于設(shè)定零速張力保持時,收卷的力矩輸出值。

放卷張力零速保持:用于設(shè)定零速張力保持時,放卷的力矩輸出值。

編碼器輥直徑輸入:此數(shù)值為編碼器輥直徑的實際測量值。此數(shù)值必須正確無誤,以確保設(shè)備運行過程的穩(wěn)定性。

放卷初徑誤差值正設(shè)定:用于設(shè)定卷繞系統(tǒng)啟動運行時,“放卷初始卷徑輸入”值允許高于實際測量值的誤差值。

放卷初徑誤差值負(fù)設(shè)定:用于設(shè)定卷繞系統(tǒng)啟動運行時,“放卷初始卷徑輸入”值允許低于實際測量值的誤差值。

擺輥動作時間設(shè)定:用于設(shè)定擺臂在自動控制模式時,擺輥電眼檢測到信號后擺臂自動往外退的動作時間。


pvd鍍膜設(shè)備鍍出的膜層出現(xiàn)異樣,是什么原因


之前有少數(shù)客戶會咨詢我們,為什么PVD鍍膜設(shè)備鍍出來的膜,偶爾會出現(xiàn)異樣的情況,問具體是什么原因。經(jīng)過我們技術(shù)人員上門檢查排查,原因各有不同,下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費水平的提升,人們對產(chǎn)品外觀要求也越來越更高,PVD鍍膜的應(yīng)用也越來越廣泛。PVD鍍膜設(shè)備也獲得越來越多的制造業(yè)廠家認(rèn)可和喜愛,它的優(yōu)勢也是顯而易見的。大家都知道機(jī)器,真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態(tài)的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術(shù)。和傳統(tǒng)的電鍍技術(shù)相比污染更小、能耗更低,所需的成本較低,裝飾效果和金屬感都比較強。但是大家也都知道它的缺點,PVD電鍍工藝不良率高、生產(chǎn)效率低、膜后不穩(wěn)定以使顏色穩(wěn)定性差等,這是整個行業(yè)的痛點。隨著后期技術(shù)不斷的發(fā)展,環(huán)保要求門檻不斷提高,傳統(tǒng)電鍍逐漸將被替代及消費者對產(chǎn)品外觀的提高,真空鍍膜技術(shù)在未來會有更廣闊的發(fā)展前景。


裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術(shù)要求,可施涂底涂層和面涂層,或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護(hù)涂層等。這些涂層的主要作用是: 提高膜層的結(jié)合力。采用相同的鍍膜方法,在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜,可提高膜層的結(jié)合力。 降低鍍件表面的粗糙度,提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度,不一定厚度涂料的整平性,可以填補鍍件表面的缺陷,使鍍件表面達(dá)鏡面平整度。 能保護(hù)金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm,膜層的耐磨性和抗變色能力較差,施涂面涂層后,鍍膜層與外界不直接接觸,對鍍膜層能起保護(hù)作用。


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