佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車(chē)輛燈具注塑 鍍膜為主的專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

真空鍍膜之磁控濺射鍍膜 ：磁控濺射的基本原理就是以磁場(chǎng)改變電子運(yùn)動(dòng)方向， 束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)軌跡， 從而提高了電子對(duì)工作氣體的電離幾率和有效地利用了電子的能量。因此在形成高密度等離子體的異常輝光放電中正離子對(duì)靶材轟擊所引起的靶材濺射更加有效，同時(shí)受正交電磁場(chǎng)的束縛的電子只能在其能量將要耗盡時(shí)才能沉積在基片上。這就是磁控濺射具有 “低溫”、“高速”兩大特點(diǎn)的機(jī)理。電子束蒸發(fā)源蒸鍍法將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面成膜，是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響： 

基體溫度：鍍膜時(shí)基體溫度直接影響膜層的結(jié)構(gòu)、致密性和附著力，溫度可用T/Tm值來(lái)確定，如；通過(guò)鍍膜可以改變基片的某些屬性，如光學(xué)性能、電學(xué)性能、機(jī)械性能、化學(xué)性能、裝飾性能等。靶材為鈦，其熔點(diǎn)為1670℃，基體溫度應(yīng)該選擇TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒組織。考慮到沉積粒子受負(fù)偏壓作用加速轟擊工件還會(huì)引起溫升，基體可選在250-300℃

真空鍍膜的形式：蒸發(fā)鍍膜

工藝原理：

1）在真空室中，膜料被加熱變成蒸發(fā)原子，蒸發(fā)原子在真空條件下不與殘余氣

體分子碰撞而到達(dá)工件表面；

2）蒸發(fā)原子與基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；

3）吸附原子在基材表面發(fā)生表面擴(kuò)散。

常見(jiàn)的濺射有兩種：不反應(yīng)濺射和反應(yīng)濺射。不反應(yīng)濺射指濺射氣體和鍍膜材料之間不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。因此不反應(yīng)濺射所使用的氣體為惰性氣體，一般使用y氣（Ar），稱(chēng)為工作氣體。不反應(yīng)濺射一般都用在鍍金屬膜層上，導(dǎo)電性能越好的材料，濺射速率越高。