佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響 ：

靶功率；真空鍍膜之多弧離子鍍：多弧離子鍍又稱電弧離子鍍或陰極離子鍍是以鍍膜材料為陰極,陽極和真空室相連,陰極和陽極分別接到低壓大電流直流電源的負(fù)極和正極。磁控濺射本身粒子初始動(dòng)能比較小，離化率低，電源功率越大，濺射出的粒子的初始能量越大，靶材濺射量也越大，沉積速率越快，膜層容易上厚度和硬度，同時(shí)工件溫升也大，過高的功率會(huì)使沉積速率太快，粒子來不及表面遷移和擴(kuò)散，易形成陰影效應(yīng)，膜層會(huì)比較疏松，應(yīng)力較大。

烘烤溫度：真空室抽氣時(shí)烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空氣和水氣，這是保證膜色調(diào)純正的重要因素之一。要注意的是，我們的設(shè)備一般采用加熱棒烘烤，以熱電偶測(cè)溫，熱電偶的感溫端位置不能靠近發(fā)熱棒，否則不能反映爐內(nèi)環(huán)境和工件的實(shí)際溫度。

離子轟擊：指利用高能高密度的金屬離子流和ya離子流對(duì)工件進(jìn)行離子轟擊清洗，能有效去除工件表面的氧化物；但需注意工件溫升過熱退火和轟出表面缺陷。

物理q相沉積法真空鍍膜技術(shù)（由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進(jìn)行的，因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù)）。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。

真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

濺射鍍膜原理：

濺射鍍膜是利用濺射現(xiàn)象來達(dá)到制取各種薄膜的目的，即在真空室中利用荷能離子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基底上沉積的技術(shù)。輝光放電是在10-2Pa-10Pa真空度范圍內(nèi)，在兩個(gè)電極之間加上高壓時(shí)產(chǎn)生的放電現(xiàn)象。在反應(yīng)濺射系統(tǒng)中，一般都加入Ar加速反應(yīng)速度，即提高濺射速率。它是離子濺射鍍膜的基礎(chǔ)，即離子濺射鍍膜中的入射離子一般利用氣體放電法得到。