東研研磨機(jī)的配件耗材介紹

東研研磨機(jī)的配件耗材介紹 研磨機(jī)是研磨加工行業(yè)的核心設(shè)備，承擔(dān)著研磨行業(yè)整個(gè)加工效率。我們知道任何一個(gè)款機(jī)械設(shè)備都需要很多大小不一的配件來(lái)幫助完成運(yùn)行，而研磨機(jī)的主要研磨耗材有研磨液、研磨盤、拋光皮、拋光布、拋光液等。 像東研的研磨液系列有很多款，鉆石研磨液312、320、330、340，研磨液的使用可以幫助研磨機(jī)提高研磨效率。東研的拋光皮常見(jiàn)的有粗磨皮、進(jìn)口拋光皮，是研磨拋光工藝中非常普遍的耗材。前面有提到研磨液，那么相對(duì)的就有拋光液，東研的拋光液主要有銅/陶瓷拋光液、不銹鋼/鋁材拋光液、銀拋光液、鏡面拋光液以及鉆石拋光液。

東研生產(chǎn)的兩種系列研磨機(jī)知識(shí)

東研生產(chǎn)的兩種系列研磨機(jī)知識(shí) 研磨機(jī)在高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面這幾種表面要求加工的工件上的研磨工藝突出，研磨機(jī)在寶石、晶片、不銹鋼、汽車等行業(yè)的表面處理應(yīng)用廣泛。 東研主要研發(fā)單面研磨拋光機(jī)和雙面研磨拋光機(jī)和翻轉(zhuǎn)機(jī)等研磨設(shè)備，單面研磨拋光機(jī)可廣泛應(yīng)用于各類材料的單面研磨拋光，特別是針對(duì)超薄工件、越大工件、易碎工件有明顯的加工優(yōu)勢(shì)。而雙面研磨拋光機(jī)可廣泛應(yīng)用于多種材料的雙面研磨拋光，研磨后可達(dá)到0.002毫米的平面誤差，使用性能穩(wěn)定。

平面研磨機(jī)研磨加工的步驟流程介紹

平面研磨機(jī)研磨加工的步驟流程介紹 研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對(duì)運(yùn)動(dòng)對(duì)加工表面進(jìn)行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達(dá)IT5～I(xiàn)T01，表面粗糙度可達(dá)Ra0.63～0.01微米。平面研磨機(jī)廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。下面是關(guān)于平面研磨機(jī)加工的具體流程。 1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對(duì)運(yùn)動(dòng)對(duì)加工表面進(jìn)行的精整加工、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達(dá)IT5～01，表面粗糙度可達(dá)R0.63～0.01微米。 2、平面研磨機(jī)研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研3類。①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動(dòng)和滾動(dòng)，形成切削運(yùn)動(dòng)。②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時(shí)只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。 4、正確處理平面研磨機(jī)進(jìn)行研磨的運(yùn)動(dòng)軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：①工件相對(duì)研具的運(yùn)動(dòng)，要盡量保證工件上各點(diǎn)的研磨行程長(zhǎng)度相近；②工件運(yùn)動(dòng)軌跡均勻地遍及整個(gè)研具表面，以利于研具均勻磨損；③運(yùn)動(dòng)軌跡的曲率變化要小，以保證工件運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)；④工件上任一點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡盡量避免過(guò)早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進(jìn)行。粗研的壓力不超過(guò)0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

時(shí)間對(duì)平面拋光研磨機(jī)的拋光液PH的影響分析

時(shí)間對(duì)平面拋光研磨機(jī)的拋光液PH的影響分析 拋光液PH值是拋光元件表面粗糙度的重要影響因素，他是拋光元件化學(xué)拋光的重要組成部分。事實(shí)證明，當(dāng)拋光壓力、溫度等外界因素相匹配時(shí)，平面拋光研磨機(jī)拋光時(shí)的PH值應(yīng)控制在11.25左右，這時(shí)候化學(xué)拋光和機(jī)械拋光的作用相平衡，拋光效果! 拋光液中PH值參數(shù)是衡量一種液體性能是否穩(wěn)定的重要因素。很多拋光液使用者并沒(méi)有清楚的意識(shí)到這一點(diǎn)，他們往往對(duì)拋光液內(nèi)的粒度分布，粒徑大小，均勻性，配比等感興趣，而忽略了一個(gè)重要的因素-PH值對(duì)整個(gè)液體狀的的影響。 在化學(xué)性質(zhì)的液體中，PH值的大小影響著液體性能的穩(wěn)定。拋光液一般在微酸或者微堿的時(shí)候，對(duì)平面拋光研磨機(jī)工件的拋光效果，所能達(dá)到的表面粗超度。當(dāng)PH值偏堿性時(shí)，粗超度變大。所以在配置這種液體的時(shí)候，我們不能忽略這一點(diǎn)，一定要反復(fù)試驗(yàn)，取得一個(gè)穩(wěn)定值。 拋光液的PH值是變化的。這是因?yàn)閽伖庖簳?huì)隨著時(shí)間的變化而變化。由于某些工件在拋光時(shí)產(chǎn)生水解作用,在實(shí)際拋光過(guò)程中拋光液的pH值會(huì)隨拋光時(shí)間不斷變化。在每次添加拋光液后,pH值的變化為劇烈。因此一開(kāi)始先每隔15s測(cè)量一次,之后每隔1min測(cè)量一次,從而可得出不同初始pH值的拋光液在拋光過(guò)程中pH值的變化規(guī)律。在對(duì)不含有堿金屬氧化物,不會(huì)與水產(chǎn)生水解反應(yīng),在平面拋光研磨機(jī)的拋光過(guò)程中拋光液的pH值基本保持不變,所以其拋光方法也不同。