無電解鍍鎳的工藝運(yùn)用

 運(yùn)用之前應(yīng)循環(huán)過濾鍍液，除掉它鍍液中的鐵屑、鐵銹等有害固體顆粒。發(fā)現(xiàn)鍍槽底面有鎳堆積，要及時(shí)移出鍍液，清洗鍍槽，減少損耗，確保鍍液的穩(wěn)定性。溫度對(duì)鍍鎳層的磷含量和堆積速度有影響，因此應(yīng)常常丈量溶液的溫度，無電解鍍鎳工藝選用主動(dòng)控溫裝置，堅(jiān)持它鍍液溫度在操作要求范圍內(nèi)。

 及時(shí)彌補(bǔ)和調(diào)整鍍液，避免鍍鍍液成分有比較大的動(dòng)搖。禁止在它鍍液中擅自參加其他有機(jī)物或許重金屬離子的穩(wěn)定劑或光亮劑。常常測驗(yàn)鍍液的pH值，堅(jiān)持pH值在工藝要求范圍內(nèi)。

化學(xué)鍍鎳的分類有哪幾種

化學(xué)鍍鎳技術(shù)時(shí)現(xiàn)在金屬制品表面使用較多的一種鍍層工藝，化學(xué)鍍鎳工藝能夠使金屬制品表面更加美觀的同時(shí)也更加的耐用。那么化學(xué)鍍鎳的分類有哪幾種呢？下面一起了解一下。

1、按鍍液的PH值分類：有中性、酸性和堿性三類。

2、按沉積溫度分類：有低溫、中溫、高溫三類。

3、按合金成分分類：有低磷、中磷和高磷三類。

4、按所用還原劑分類：有Ni-P、Ni-B等。

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光亮鍍鎳液液的PH值應(yīng)該控制在怎樣的范圍內(nèi)為好?如何控制?

光亮鍍鎳的溶液呈弱酸性，陰極電流效率小于l00%，因此在電鍍過程中，陰極上除了鎳的沉積外，還有少量的氫氣析出，氫氣的析出影響到溶液的氫離子濃度，而pH值的控制范圍對(duì)鍍層質(zhì)量是至關(guān)重要的一個(gè)參數(shù)。

在各種光亮鍍鎳的配方中，隨著主鹽含量的不同，相應(yīng)鍍液的pH值控制范圍應(yīng)當(dāng)也不一樣。

其一般規(guī)律為：硫l酸鎳含量高時(shí)，pH值允許偏低;硫l酸鎳含量低時(shí)，pH值應(yīng)偏高。pH值總的變化范圍應(yīng)控制在3.8～5.5為宜，如果pH值過低，陰極電流效率降低，鍍層脆性大，甚至得不到鍍層，只有氫氣的析出;反之，pH值過高，溶液渾濁，沉積出來的鍍層發(fā)霧，有毛刺，有嚴(yán)重脆性。