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真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù),通常稱為干式鍍膜技術(shù)。
真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。
物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得,它利用某種物理過(guò)程,如物質(zhì)的熱蒸發(fā),或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過(guò)程。物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí),物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下,因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能,人們?cè)诟?jìng)相開(kāi)發(fā)、高可靠性設(shè)備的同時(shí),也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。
化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng),在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。
真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)介紹
真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分,鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多,有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式,鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發(fā)兩種方式作介紹,因?yàn)榇藘煞N方式我應(yīng)用的比較多。
電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多,廣泛的蒸發(fā)方式,也是應(yīng)用時(shí)間長(zhǎng)的蒸發(fā)方式。它的工作方式是,將鎢片做成船狀,然后安裝在兩個(gè)電極中間,在鎢舟中央加上藥材,再緩緩給電極通電,電流通過(guò)鎢舟,鎢舟通電發(fā)熱,這些低電壓,大電流使高熔點(diǎn)的鎢舟產(chǎn)生熱量,再熱傳導(dǎo)給鍍膜材料,當(dāng)鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點(diǎn)的時(shí)候,材料就升華或者蒸發(fā)了,此方法由于操作方便,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本低廉,故被很多設(shè)備應(yīng)用,但是其蒸發(fā)出來(lái)的薄膜由于致密性不佳,加上很多材料無(wú)法采用這種方式蒸鍍,所以其有一定局限性。鎢舟蒸發(fā)鍍膜材料的時(shí)候,材料的熔點(diǎn)必須小于鎢舟的熔點(diǎn),否則就沒(méi)有辦法進(jìn)行。
包裝卷繞真空鍍膜設(shè)備
HCPAK系列卷繞鍍膜設(shè)備是用于鋁屏障包裝應(yīng)用的卷對(duì)卷金屬化解決方案。在利潤(rùn)率較低的行業(yè)中,的生產(chǎn)效率,再加上的產(chǎn)品性能,是應(yīng)對(duì)未來(lái)挑戰(zhàn)的答案。
通過(guò)將傳統(tǒng)的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強(qiáng)光學(xué)、保護(hù)和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100~3850mm的寬幅,以及所有常見(jiàn)的塑料薄膜和紙張基材,針對(duì)2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實(shí)現(xiàn)輸出,比傳統(tǒng)系統(tǒng)提高25%以上的處理速度。
特點(diǎn):高正常運(yùn)行時(shí)間,因?yàn)橐粋€(gè)強(qiáng)大和服務(wù)友好的機(jī)器概念由于強(qiáng)大的等離子預(yù)處理,產(chǎn)品一致性高,阻隔性能提高由于鋁蒸發(fā)器源的優(yōu)化配置,在層均勻性方面具有的產(chǎn)品質(zhì)量簡(jiǎn)化操作和優(yōu)化設(shè)計(jì),便于操作的設(shè)備卷繞系統(tǒng)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)概念使卷繞路徑能夠靈活地適應(yīng)基板和應(yīng)用的個(gè)別要求。由于穩(wěn)健的機(jī)器設(shè)計(jì),正常運(yùn)行時(shí)間很長(zhǎng)