ICP光譜儀光譜分析

今天ICP光譜儀小編跟您講講光譜分析，由于每種原子都有自己的特征譜線，因此可以根據(jù)光譜來鑒別物質(zhì)和確定它的化學(xué)組成.這種方法叫做光譜分析.做光譜分析時，可以利用發(fā)射光譜，也可以利用吸收光譜.這種方法的優(yōu)點是非常靈敏而且迅速.某種元素在物質(zhì)中的含量達10^-10(10的負10次方)克，就可以從光譜中發(fā)現(xiàn)它的特征譜線，因而能夠把它檢查出來.光譜分析在科學(xué)技術(shù)中有廣泛的應(yīng)用.例如，在檢查半導(dǎo)體材料硅和鍺是不是達到了高純度的要求時，就要用到光

太陽光譜譜分析.在歷，光譜分析還幫助人們發(fā)現(xiàn)了許多新元素.例如，銣和銫就是從光譜中看到了以前所不知道的特征譜線而被發(fā)現(xiàn)的.光譜分析對于研究天體的化學(xué)組成也很有用.十九世紀初，在研究太陽光譜時，發(fā)現(xiàn)它的連續(xù)光譜中有許多暗線。光譜儀的磁盤驅(qū)動器及打印機清出灰塵之后，要在機械活動部件滴加少許儀表油。不知道這些暗線是怎樣形成的，后來人們了解了吸收光譜的成因，才知道這是太陽內(nèi)部發(fā)出的強光經(jīng)過溫度比較低的太陽大氣層時產(chǎn)生的吸收光譜.仔細分析這些暗線，把它跟各種原子的特征譜線對照，人們就知道了太陽大氣層中含有氫、氦、氮、碳、氧、鐵、鎂、硅、鈣、鈉等幾十種元素.

ICP光譜儀的目標元素

ICP光譜儀是上世紀60年代提出、70年代迅速發(fā)展起來的，它的迅速發(fā)展和廣泛應(yīng)用是與其克服了經(jīng)典光源和原子化器的局限性分不開的，那么ICP光譜儀的目標元素都有哪些呢？下面小編就來介紹一下：

ICP光譜儀軟質(zhì)樣品（例如：銅、鋁、鋅、鉛）必須車削表面或用酒精濕磨.磨好的表面一定不要玷污（例如用手觸摸）.考慮到金屬熱漲冷縮效應(yīng),會影響光線穩(wěn)定性.溫度變化會影響儀器的熱平衡,對和一些電器件會造成不穩(wěn)定,若溫差較大對光路也會有影響.

ICP光譜儀對于鋼和鑄鐵（顆粒大小,對鋼是60到80之間,對鑄鐵是40到60之間）,建議用適合于本儀器樣品的砂紙干磨.砂紙一定不要被高合金含量的樣品污染（例如：應(yīng)該先用于低合金樣品，再用于高合金樣品）.樣品必須在清潔的、規(guī)范的砂紙上磨（沒有先前激發(fā)處理留下的激發(fā)的痕跡）.樣品表面不能被拋光（適時更新用過的砂紙）.必須確保樣品在磨的過程中沒有過熱（樣品應(yīng)該與砂紙只有短暫的接觸）。在標準和分析試樣中加入過量的易電離元素，使火焰或等離子體中的自由電子濃度穩(wěn)定在相當(dāng)高的水平上，從而抑制或消除分析元素的電離。如果需要，樣品應(yīng)該用水冷卻，再干燥，再盡可能短的時間干磨.

ICP光譜儀可用標樣中目標元素的“真實濃度”與分析線對和強度比（R）擬合工作曲線（校準曲線）。如果鐵含量變化過大，如高、中合金鋼，其影響不可忽略，需要用標樣中目標元素的“相對濃度”（或“濃度比”）與分析線對和強度比（R）擬合工作曲線，這就是我國光譜分析的前輩講的“誘導(dǎo)含量法”。如果希望用同一工作曲線同時分析高、中、低合金鋼，那就都要用“相對濃度”來校正基體含量的影響。更進一步，如果既要校正基體含量的影響，又要校正共存元素的干擾，就應(yīng)該用“表觀濃度”來擬合工作曲線。試樣多數(shù)不需經(jīng)過化學(xué)處理就可分析，且固體、液體試樣均可直接分析，同時還可多元素同時測定，若用光電直讀光譜儀，則可在幾分鐘內(nèi)同時作幾十個元素的定量測定。

ICP光譜儀雖然本身測量準確度很高，但測定試樣中元素含量時， 所得結(jié)果與真實含量通常不一致，存在一定誤差，并且受諸多因素的影響，有的材料本身含量就很低。

ICP光譜儀的校正

光學(xué)系統(tǒng)校正

在PROFILE儀器中，操作軟件自動控制儀器每30分鐘快速校正、每2小時完全校正光學(xué)系統(tǒng)。如果實驗室環(huán)境溫度變化較大，不能保證工作條件，可能造成測量結(jié)果數(shù)據(jù)漂移。

光學(xué)系統(tǒng)校正使用燈，選擇Hg8線（波長253.652nm），儀器內(nèi)部裝有燈，只要按照操作規(guī)程操作即可。

等離子體位置校正

等離子體位置校正的目的是將光源對準光學(xué)系統(tǒng)。通常在重新裝配進樣系統(tǒng)后，點燃等離子體，用Mn溶液（10ug/mL）校正。

在等離子體位置校正過程中，值得注意的是：確保選中Mn 257.610波長、Mn溶液能夠正常進入并形成氣溶膠進入等離子體。如果上述條件沒有滿足，可能造成校正失敗。