1.3.次lv酸鈉發(fā)生器安裝要求：1.3.1設(shè)備應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽光直射，設(shè)備工作環(huán)境溫度要求10℃以上。

1.3.2因次lv酸鈉具有強氧化性，因此在選擇設(shè)備安裝位置時應(yīng)避免同其它電器設(shè)備置于同一房間，應(yīng)單獨設(shè)立設(shè)備間。

1.3.3控制柜要單獨一個房間放置，不要與設(shè)備或鹽酸置于同一房間。

1.3.4設(shè)備與原料貯罐下面應(yīng)做混凝土基礎(chǔ)。

1.3.6設(shè)備間地面應(yīng)鋪設(shè)水泥地面，并設(shè)有沖洗所用水源和排水下水道。

1.3.7設(shè)備間應(yīng)配備壓力水源。

1.3.8應(yīng)在設(shè)備間墻壁下部安裝排風扇，保持通風良好.

1.3.9設(shè)備間應(yīng)有必要的照明設(shè)施及與設(shè)備裝機容量相應(yīng)的電源。

次是強氧化劑和消毒劑，它是通過取源于廣泛價廉的工業(yè)鹽或海水稀溶液，經(jīng)無隔膜電解而發(fā)生的。為確保次質(zhì)地新鮮和有較高的活性。保證消毒效果，本裝置一邊發(fā)生，一邊將發(fā)生的次投加使用。它與氯和氯的化合物相比，具有相同的氧化性和消毒作用。

  本裝置主要用于醫(yī)院含菌污水處理，電鍍含青廢水的處理，還可用于游泳池、生活飲用水、生活污水消毒、食品加工廠環(huán)境和飲食店、公共食堂的餐具和飲具消毒。

  隨著我國四化建設(shè)的發(fā)展，這種小型氯劑發(fā)生裝置必將為我國環(huán)境保護工程、水處理消毒工藝等起到不可忽視的作用。

  設(shè)備特點：

(一)次發(fā)生器為組合形式，鹽的溶解，稀鹽水的調(diào)配，投加計量及次循環(huán)發(fā)生在一只槽體內(nèi)進行，投資少、占地省、設(shè)置靈活。

(二)發(fā)生器為管狀、內(nèi)冷、單極、串開相接的組合形式，發(fā)生器陽極以鈦為基體，涂二氧化釕，電位低、壽命長。在正常操作情況下．每支每次連續(xù)發(fā)生200—300小時。組成結(jié)構(gòu)電解法次氯酸鈉發(fā)生器生產(chǎn)的HCCL次氯酸鈉發(fā)生器一般由化鹽裝置、電解裝置、整流設(shè)備、配兌水系統(tǒng)、自控裝置和儲藥液箱等幾大部分組成。次發(fā)生過程為隔膜式自然循環(huán)形式，因此，鹽利用率高，電解過程電流，次產(chǎn)率大，能耗小，運行費用低。

經(jīng)常保持次發(fā)生器設(shè)備的清潔

1、經(jīng)常保持次發(fā)生器設(shè)備的清潔，溶鹽箱底部的鹽污應(yīng)經(jīng)常清除，盡可能避免鹽污進入電解槽。

2、要經(jīng)常檢查發(fā)生器循環(huán)管進水閥是否有滲漏現(xiàn)象，發(fā)現(xiàn)后要及時維修或調(diào)換。

3、工作完成后發(fā)生器一定用自來水反沖洗，主要是防止NaClO對陽極內(nèi)壁的腐蝕，同時排除Ca2 、Mg2 等沉積物。

4、本電解槽使用電極為管式電極，一般水質(zhì)條件下，電解250小時，產(chǎn)生的鈣鎂離子將結(jié)垢與陰極表面，使槽電流下降，故應(yīng)進行酸浸泡處理，處理方法是在反沖洗完成后，放空熔鹽水箱、儲藥箱及冷卻水箱內(nèi)液體，由安裝調(diào)試人員指導(dǎo)用戶操作人員，將電解槽拆下，利用3%左右的稀鹽酸浸泡10-15min，后用清水沖洗。這在生產(chǎn)過程中就需要人工去配置，本系統(tǒng)可實現(xiàn)自動配比，設(shè)備e、次氯酸鈉發(fā)生器自動加氯：工廠經(jīng)常會因為應(yīng)用場合的不同，而對于次氯酸鈉溶液的有效氯投放濃待液位下降后再繼續(xù)工作，存儲槽采用食品級PVC材料制作。

5、本電解槽陽極活性涂層在一般水質(zhì)條件下投入使用約60個月后，逐步降低槽電流值，在清理電解槽后觀察陽極黑色層，如開始發(fā)現(xiàn)局部可見鈦金屬底色是，須進行返廠重涂。電極活性涂層返廠重涂應(yīng)與制造廠家取得聯(lián)系。

影響次氯酸鈉發(fā)生器運行成本的因素：

(1)投入鹽量一定時，攪拌時間越長，溶解度越高，產(chǎn)氯量越大，從而降低了成本。

(2)要注意電極板的維護與修養(yǎng)，及時清潔電極板與電解箱雜質(zhì)。電極板結(jié)垢程度越小，電解能力越強，產(chǎn)氯量越大，同時，也節(jié)省電耗，達到了降低成本的目的。

(3)鹽液箱也要及時清洗，以減少雜質(zhì)，增加電解能力，提高產(chǎn)氯量。