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舟山AF鍍膜設(shè)備多重優(yōu)惠,至成鍍膜設(shè)備

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-10 11:02  









鍍膜機(jī)能鍍出不同顏色的不銹鋼產(chǎn)品嗎


不同的顏色,用不同的工藝和不同的耙材,比如常見(jiàn)的槍色,我們一般選擇用鈦耙或者鉻耙,鈦耙做出來(lái)的顏色老,鉻耙做出來(lái)的顏色嫩,黑色的我們一般用鈦柱耙或者鉻柱耙。

如果膜層出來(lái)掉色的現(xiàn)象,個(gè)分析工藝是否正確,第二個(gè)分析前處理清洗是否徹底,純水值是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)要求,第三個(gè)分析真空爐是否有泄漏。原因大概就這三個(gè)。如果顏色出現(xiàn)變色,分析掛具的產(chǎn)品是否在有效的濺射范圍內(nèi),第二分析工藝是否應(yīng)該調(diào)整。

退鍍這一塊也是根據(jù)不同的工藝,偏壓的大小,不同的耙材所鍍的顏色來(lái)分析應(yīng)該如何來(lái)正確的退鍍,用鈦耙鍍出來(lái)的顏色。


鍍膜理論


鍍膜控制穿過(guò)光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí),波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位(180°位移)時(shí),其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng),導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和破壞性的干涉。

光的波長(zhǎng)和入射角通常是的,折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會(huì)影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長(zhǎng)度,并將在光透射時(shí)改變相位值。這種效應(yīng)可簡(jiǎn)單地通過(guò)單層增透膜例子說(shuō)明。當(dāng)光傳輸穿過(guò)系統(tǒng)時(shí),在鍍膜任一側(cè)的兩個(gè)接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射,我們希望它們?cè)趥€(gè)接口重組時(shí),這兩個(gè)反射部分具有180°的相位移。這個(gè)相位差異直接對(duì)應(yīng)于aλ/2位移的正弦波,它可通過(guò)將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得良好實(shí)現(xiàn)。



磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高? 這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。 通常在健身過(guò)程中,經(jīng)過(guò)加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時(shí)候,會(huì)產(chǎn)生電子發(fā)射,而這些在陰極表面產(chǎn)生的電子開(kāi)始向陽(yáng)極加速進(jìn)入負(fù)輝光區(qū),和中性氣體原子進(jìn)行碰撞,產(chǎn)生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大,隨著氣壓的增大而減小,特別是在遠(yuǎn)離陰極的地方產(chǎn)生,它們的熱壁損失也是非常大的,這主要是因?yàn)槠潆x化效率低。 因此可以加上一平行陰極表面的磁場(chǎng)就能夠?qū)⒊跏茧娮酉拗圃陉帢O范圍內(nèi),能夠有效的增加氣體原子的梨花效率,從而提高磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射效率。


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