在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。

蝕刻、曝光和顯影是什么意思?

1、蝕刻：利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路.

2、曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上.

3、顯影：通過(guò)堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉.

曝光也叫感光，是將菲林放在已經(jīng)噴了感光油的產(chǎn)品上面，主要的目的是通過(guò)曝光讓菲林上的圖案在材料上對(duì)應(yīng)成型，表面光潔度完全可滿足產(chǎn)品裝配的要求。槽蝕刻加工的能力：往往些產(chǎn)品如不銹鋼或銅或鋁材質(zhì)等產(chǎn)品，會(huì)要求在材料的表面進(jìn)行槽的加工。來(lái)料檢驗(yàn)當(dāng)接到客戶需要加工的工件時(shí),首先我們要經(jīng)過(guò)檢查，也就是我們目前IQC工序所要做的工作,把接到客戶的加工工件抹干凈，然后進(jìn)行仔細(xì)檢驗(yàn)，把來(lái)料中存在的不良品剔除出來(lái)，保證投入的產(chǎn)品是良品。

對(duì)于深度要求淺的蝕刻材料的表面狀態(tài)及品粒組織就會(huì)對(duì)深度的均勻性產(chǎn)生影響，同時(shí)如果將蝕刻溶液及物理參數(shù)調(diào)到快的蝕刻速度其均勻性將無(wú)法控。付于蝕刻深度超過(guò)毫米級(jí)的要求其刻速度達(dá)到0.05mm/min時(shí)，在生產(chǎn)中會(huì)覺(jué)得太慢。如果對(duì)蝕刻深度要求在0.035mm時(shí)，其蝕刻速度在0.01mm/mim時(shí)會(huì)覺(jué)得太快。因?yàn)榻饘傥g刻時(shí)并不是所想象的那樣同時(shí)在整個(gè)金屬表面展開(kāi)。