一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團隊 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理

X射線熒光就是被分析樣品在X射線照射下發(fā)出的X射線，它包含了被分析樣品化學組成的信息，通過對X射線熒光的分析確定被測樣品中各組分含量的儀器就是X射線熒光分析儀。由原子物理學的知識，對每一種化學元素的原子來說，都有其特定的能級結構，其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線照射下脫離原子的束縛，成為自由電子，這時原子被激發(fā)了，處于激發(fā)態(tài)。002um~100um左右，能測試5層以上膜厚，并且可以測量合金鍍層，也可分析鍍層元素和含量比。此時，其他的外層電子便會填補這一空位，即所謂的躍遷，同時以發(fā)出X射線的形式放出能量。

由于每一種元素的原子能級結構都是特定的，它被激發(fā)后躍遷時放出的X射線的能量也是特定的，稱之為特征X射線。通過測定特征X射線的能量，便可以確定相應元素的存在，而特征X射線的強弱（或者說X射線光子的多少）則代表該元素的含量。

一六儀器 專業(yè)測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

能量色散X熒光光譜儀定義及原理

X射線熒光光譜儀是一種可以對多元素進行快速同時測定的儀器。試樣受X射線照射后，其中各元素原子的內(nèi)殼層（K，L或M層）電子被激發(fā)逐出原子而引起電子躍遷，并發(fā)射出該元素的特征X射線熒光。每一種元素都有其特定波長的特征X射線。如果合金鍍層成分穩(wěn)定，選擇合適的對比分析樣品，就可以準確的分析出合金鍍層的厚度。能散型X射線熒光光譜儀（EDXRF）利用熒光X射線具有不同能量的特點，由探測器本身的能量分辨本領來分辨探測到的X射線。

上照式：通常都有Z軸可移動，所以可對形狀復雜的樣品（如凹面內(nèi)）做定位并且測試，一般可定位到2mm以內(nèi)的深度，如Thick800A，另外有些廠商在此基礎上配備了可變焦裝置，搭配先進的算法，可定位到80mm以內(nèi)的深度，如XDL237

下照式：通常都沒有Z軸可移動，所以不可對凹面等無法直接接觸測試窗口的位置進行定位并測試，但操作簡單，造價相對低；部分廠商或款式儀器搭載變焦裝置也可測試復雜形狀樣品，同時也抬高了價格

江蘇一六儀器   X射線熒光光譜儀XTU/X-RAY系列 

技術參數(shù)

X射線裝置：W靶微聚焦加強型射線管

準直器φ 0.05 mm  ；φ 0.1 mm；φ 0.2 mm；φ 0.5 mm； 準直器任意選擇或者任意切換

近測距光斑擴散度：9%

測量距離：具有距離補償功能，可改變測量距離，能測量凹凸異型樣品，變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級到90mm)

樣品觀察：1/2.5彩色CCD，變焦功能對焦方式高敏感鏡頭，手動對焦

放大倍數(shù)：光學38-46X，數(shù)字放大40-200倍

隨機標準片：十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um 

其它附件：聯(lián)想電腦一套、噴墨打印機、附件箱