原來(lái)磁場(chǎng)強(qiáng)弱雖不好進(jìn)行控制，但同時(shí)工件也在同時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)，且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序，在一段時(shí)間內(nèi)雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個(gè)時(shí)間內(nèi)，磁場(chǎng)強(qiáng)的作用下在原來(lái)薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個(gè)膜層成膜后，均勻性還是比較不錯(cuò)的。

亞氣的送氣均勻性也會(huì)對(duì)膜層均勻性產(chǎn)生影響，其原理實(shí)際上和真空度差不多，因?yàn)閬啔獾倪M(jìn)入，真空室內(nèi)壓強(qiáng)會(huì)產(chǎn)生變化，均勻的壓強(qiáng)大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機(jī)膜厚度的均勻性。

真空電鍍?cè)O(shè)備對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，真空電鍍?cè)O(shè)備熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

真空電鍍?cè)O(shè)備具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。真空電鍍?cè)O(shè)備成膜性能好，真空電鍍?cè)O(shè)備涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。真空電鍍?cè)O(shè)備與面涂層有良好的相溶性。真空電鍍?cè)O(shè)備由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

真空電鍍的做法也是相當(dāng)復(fù)雜，一般是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件，在注塑時(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會(huì)出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以后，會(huì)形成一個(gè)光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn)。


一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件，在注塑時(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會(huì)出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況。在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹(shù)脂變形，必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。