鍍膜機廠家介紹光學(xué)監(jiān)控法的特點

真空鍍膜機膜厚的監(jiān)控方法較多，目前較新的方法是光學(xué)監(jiān)控法，其相對于的傳統(tǒng)的石英晶體微量平衡法來說，光學(xué)監(jiān)控法更具有準(zhǔn)確性，因為傳統(tǒng)的測試的方法很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機廠家就來為大家介紹一些光學(xué)監(jiān)控法的特點。

光學(xué)監(jiān)控法可以有效提高光學(xué)反應(yīng)對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長，光學(xué)監(jiān)控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。能夠更準(zhǔn)確地控制膜層厚度 。

上述所說就是鍍膜機廠家為大家介紹的光學(xué)監(jiān)控法的一些特點，而從中我們不難看出光學(xué)監(jiān)控相比傳統(tǒng)的監(jiān)控法來說是一種更適合對真空鍍膜機膜厚的監(jiān)測方法。

真空電鍍機操作注意事項

左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。

低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至110mA時，左旋鈕'1'旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。

當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。

真空鍍膜機開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。

低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥桿順時針旋轉(zhuǎn)）。

等低真空表“2”內(nèi)指針右移動至0.1Pa時，開規(guī)管燈絲開關(guān)。

發(fā)射、零點測量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。

左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。

旋轉(zhuǎn)發(fā)射調(diào)節(jié)鈕“4”，使高壓真空表“5”內(nèi)指針指向5。

發(fā)射、零點、測量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向零點位置。

旋轉(zhuǎn)零點調(diào)節(jié)鈕“10”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向0位置。

發(fā)射、零點、測量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向測量位置。

旋轉(zhuǎn)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)節(jié)鈕“3”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向10。

旋轉(zhuǎn)“倍加器”開關(guān)鈕“8”至指向10-12，當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時針左移超過1時，再把“倍加器”開關(guān)旋鈕“8”旋轉(zhuǎn)至指向10-3。

真空電鍍機行業(yè)發(fā)展優(yōu)勢

真空電鍍機對環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對所處實驗室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預(yù)期的真空度很難的。眾所周知，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當(dāng)大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴(yán)重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能?？诰迾I(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標(biāo)準(zhǔn)，從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的口巨業(yè)部門，也適合于真空對潔凈環(huán)境的要求。