金屬蝕刻工藝中曝光顯影在蝕刻加工中的作用，主要是介紹曝光的工序過程，也為大家介紹過金屬蝕刻的曝光原理。曝光對產(chǎn)品質(zhì)量非常重要，曝光質(zhì)量控制要點(diǎn)，保證產(chǎn)品的質(zhì)量。

金屬材料放入蝕刻機(jī)前，需要經(jīng)過多道工序，曝光就是其中之一，可以稱之為金屬蝕刻加工中用光的藝術(shù)。金屬材料經(jīng)過除油、清洗、涂布之后，還要經(jīng)過烘烤，使附著在上面的感光油墨凝固后，然后才能進(jìn)行曝光。金屬蝕刻工藝中的曝光，其實(shí)和攝影中相機(jī)膠卷的原理是一樣的。

脫銷定位系統(tǒng)定位包括照相底片沖孔器和雙圓孔脫銷定位qi。定位方法是：首先將正、反兩張底片藥膜面相對在顯微鏡下對準(zhǔn)，將對準(zhǔn)的兩張底片用沖孔器沖兩個(gè)定位孔，取一張沖好定位孔的底片去編鉆孔程序，便能得到同時(shí)鉆出元件孔和定位孔的數(shù)據(jù)帶或數(shù)據(jù)盤，一次性鉆出元件孔及定位孔，在孔金屬化后預(yù)鍍銅，便可用雙圓孔脫銷定位qi定位曝光。

非曝光區(qū)的光刻膠由于在曝光時(shí)并未發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在顯影時(shí)也就不會存在這樣的酸堿中和，因此非曝光區(qū)的光刻膠被保留下來。經(jīng)過曝光的正膠是逐漸溶解的，中和反應(yīng)只在光刻膠的表面進(jìn)行，因此正膠受顯影液的影響相對比較小。進(jìn)行顯影的方式有很多種，廣泛使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個(gè)階段：硅片被置于旋轉(zhuǎn)臺 上，并且在硅片表面上噴灑顯影液；然后硅片將在靜止的狀態(tài)下進(jìn)行顯影；顯影完成后，需要經(jīng)過漂洗，之后再烘干。

正顯影時(shí)，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時(shí)，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。

這被稱作為“抗蝕層”。在蠟層中刻出圖案，使底下的金屬部分顯露出來。制備好的金屬材料被浸漬在鹽酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的區(qū)域被刻蝕到所需的深度。顯影時(shí)，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數(shù)碼復(fù)合機(jī)與激光打印機(jī)中。