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氧化溶液的溫度與時間的關(guān)系

溶液的溫度越低，所需的陽極氧化時間應(yīng)越長。因為溶液溫度較低時氧化膜的生成速度緩慢。溶液的溫度升高時則氧化膜的生成速度加快。此時要縮短陽極氧化時間，否則由于氧化膜的外層電阻加大而導(dǎo)致膜層溶解，出現(xiàn)工件尺寸的改變、表面粗糙掉膜的現(xiàn)象。

鋁氧化電解液溫度：電解液溫度對氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當(dāng)溫度為22～30℃時，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當(dāng)差；當(dāng)溫度大于30℃時，膜就變得疏松且不均勻，有時甚至不連續(xù)，且硬度低，因而失去使用價值；當(dāng)溫度在10～20℃之間時，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當(dāng)溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。

鋁氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導(dǎo)電作用。鋁以及其鋁合金制品進行陽極氧化時，鋁氧化在陽極作用下發(fā)生了下列的反應(yīng)：2Al--->6e- 2Al3 ；在陰極的作用下發(fā)生下列反應(yīng)：6H2O 6e---->3H2 6OH-；同時其酸對鋁及制品的生成的氧化膜進行化學(xué)反應(yīng)溶解，其反應(yīng)為：2Al 6H --->2Al3 3H2；Al2O3 6H --->2Al3 3H2O氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。

無孔層形成。通電在剛開始的幾秒鐘到幾十秒的時間之內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有很高絕緣性能的鋁氧化膜層，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無孔的薄膜層，我們稱之為無孔層或者是阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和膜層的繼續(xù)增厚。無孔層的厚度與形成的電壓大小成正比關(guān)系，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出其由零開始急劇增大至其值。