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國內外研究人員一直致力于開發(fā)取代電鍍的表面防護技術的研究,物理氣相沉積(PVD)技術作為一種環(huán)境友好技術,具有很多其他技術所不具備的特點,通過控制其工藝參數(shù)可以得到晶粒細小、厚度均勻、膜基結合力優(yōu)異的鍍層;同時由于PVD是一種干法鍍技術,可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質溶液殘留在磁體孔隙內和電鍍過程中磁體吸氫而導致鍍層脆裂的缺點。然而,PVD表面處理受批量生產成本和某些因素的限制,現(xiàn)在并沒有大規(guī)模生產應用。裝飾真空鍍膜設備是蒸發(fā)式鍍膜裝置,在真空室中利用電阻加熱法,將緊貼在電阻絲上的金屬絲(鋁絲)熔融汽化,汽化了金屬分子沉積于基片上,而獲得光滑高反射率的膜層,達到裝飾美化物品表面的目的。
真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。
真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱,然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。采用通氣對流加熱方式還可使加熱均勻,減少表面和心部的溫差,從而也減少畸變。真空鍍膜設備使用一段時間后,必須要對設備進行清潔維護。3、依托政府支持,大力加強與擁有行業(yè)先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業(yè)、高校合作,使得新品能迅速推向市場。真空系統(tǒng)必須具備完整的真空獲得系統(tǒng)和真空測量系統(tǒng)。