真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜。真空鍍膜設(shè)備若有灰塵，將會(huì)影響真空鍍膜的效果和質(zhì)量?；瘜W(xué)氣相沉積加工

真空鍍膜設(shè)備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術(shù)。采用通氣對(duì)流加熱方式還可使加熱均勻，減少表面和心部的溫差，從而也減少畸變。

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。

納米鍍膜產(chǎn)品已為大眾所熟知，并廣泛應(yīng)用在手機(jī)鍍膜領(lǐng)域上，其實(shí)針對(duì)納米鍍膜產(chǎn)品的功能特性，它所能適用的范圍領(lǐng)域是很廣泛的。

真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用時(shí)較早的。真空鍍膜技術(shù)在電子方面開(kāi)始是用來(lái)制造電阻和電容元件，之后隨著半導(dǎo)體技術(shù)在電機(jī)學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用，又使這一技術(shù)成為晶體管制造和集成電路生產(chǎn)的必要工藝手段。近年來(lái)，隨著集成路向大規(guī)模和超大規(guī)模集成方向發(fā)展，從而又對(duì)真空鍍膜技術(shù)提出了新的要求。因而在電機(jī)學(xué)領(lǐng)域中又產(chǎn)生了一個(gè)新的分支一薄膜微電子學(xué)。真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細(xì)清洗。