佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

真空鍍膜之多弧離子鍍 ：

電弧電流一般為幾安至幾百安,工作電壓為10-25V,這時陰極表面的全部電流集中在一個或多個很小的部位 , 形成明亮的陰極弧斑 , 陰極弧斑的直徑為0.01-100um, 并以高達100m/s的速度在陰極靶表面隨機運動 , 也可以利用磁場控制陰極弧斑的運動。在陰極弧斑的前方是高密度的金屬等離子體, 由于電子向陽極快速移動而使陰極斑點前方出現(xiàn)離子堆積即形成正空間電荷 , 從而在陰極附近形成極強的電場, 導(dǎo)致場電子發(fā)射以維持弧光放電。鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：輝光清洗：對工件施加負偏壓，產(chǎn)生輝光放電，利用ya離子轟擊工件表面，這種輝光放電清洗作用比較柔和，一般采取由弱到強的轟擊清洗順序，是怕工件太臟時一開始就強轟擊，可能產(chǎn)生強烈的打火而損傷工件。

部分離子對陰極的轟擊又使陰極斑點局部快速蒸發(fā)并在空間迅速離化,使這些陰極弧斑點變成微小蒸發(fā)源,這些微小蒸發(fā)源在磁場和屏蔽絕緣的作用下束縛在陰極靶面做無規(guī)則運動,從而形成大面積均勻的蒸發(fā)源,噴發(fā)出電子、離子、熔融的金屬材料和原子。大部分是離子和熔融粒子,在偏壓作用下,離子流在基體上凝聚成金屬、合金或化合物薄膜。用這種工藝形成的鍍層，與零件表面既無牢固的化學(xué)結(jié)合，有無擴散連接，附著能很差，有時就像桌面上落的灰塵一樣，用手一摸也會擦掉。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響 ：弧靶電流：弧靶電流越大，靶材蒸發(fā)量越大，靶面溫度越高，冷卻越差，弧靶產(chǎn)生的液滴大顆粒越多，膜層外觀越差，膜層中的缺陷越多。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響： 

基體溫度：鍍膜時基體溫度直接影響膜層的結(jié)構(gòu)、致密性和附著力，溫度可用T/Tm值來確定，如；這類鍍膜劑所標稱的耐久性也僅相當于樹脂涂層的耐久性，根本無法與不會學(xué)化的純無機糖瞄相捏并論。靶材為鈦，其熔點為1670℃，基體溫度應(yīng)該選擇TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒組織?？紤]到沉積粒子受負偏壓作用加速轟擊工件還會引起溫升，基體可選在250-300℃