研磨機(jī)配用拋光盤的技巧

研磨機(jī)配用拋光盤的技巧 研磨機(jī)分為單面和雙面，主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。在拋光過程中少不了一種耗材，那便是拋光盤，拋光盤關(guān)系到工件表面的精度。因此，選用拋光盤有一定的技巧，下面為大家小結(jié)3點。 首先不能使用廢棄且已經(jīng)磨損變形的拋光盤，一些小企業(yè)為了節(jié)省成本就會這樣做。其次盡量使用耐磨性能好的拋光盤，拋光盤的材質(zhì)有多種，不同材質(zhì)的耐磨性能各不相同，選擇材質(zhì)較好的拋光盤，在耐磨損性能方面也有一定的保證。 后，如果有耐磨性能很好但是稍微出現(xiàn)了磨損，建議采用人工修整拋光盤的平面，這樣可避免耗材的浪費。

平面研磨機(jī)的兩種設(shè)備類型

平面研磨機(jī)的兩種設(shè)備類型 平面研磨機(jī)是用于工件平面研磨拋光的設(shè)備，在打造鏡面效果和光滑表面有著突出的作用。平面研磨拋光有單面和雙面兩種方式的研磨拋光方式，相對應(yīng)的就有單面研磨拋光機(jī)和雙面研磨拋光機(jī)。 像我們?nèi)粘＝佑|的手機(jī)玻璃、藍(lán)寶石、陶瓷、金屬等表面光滑的產(chǎn)品都是通過單面研磨拋光機(jī)加工而成。尤其對于超薄工件、體積大的工件和易損工件，單面研磨拋光機(jī)的研磨加工優(yōu)勢愈加明顯。雙面研磨拋光機(jī)主要是通過上下研磨盤相反方向轉(zhuǎn)動進(jìn)行工作，在光學(xué)玻璃行業(yè)的硅片、藍(lán)寶石襯底、外延片中的應(yīng)用具有重要意義，雙面研磨拋光機(jī)在雙面研磨拋光后可以工件達(dá)到≤0.002mm的平面誤差。 平面研磨機(jī)用于研磨拋光是非常實用的設(shè)備，代替了傳統(tǒng)低效率的研磨加工方式，提高了研磨加工行業(yè)的整體工作效率，給相關(guān)行業(yè)帶來更多的經(jīng)濟(jì)效益。

淺說平面研磨機(jī)工作時間和速度的聯(lián)系

淺說平面研磨機(jī)工作時間和速度的聯(lián)系 平面研磨機(jī)工作的時間和速度這兩個研磨要素是密切相關(guān)的，與加工過程中工件所走過的路程成正比，研磨時間過長，不僅加工精度趨向穩(wěn)定不再提高，甚至?xí)蜻^熱變形喪失精度，并使研磨效率降低。實踐表明，在研磨的初始階段，工件幾何形狀誤差的消除和表面光潔度的改善較快，而后則逐步緩慢下來。 通過平面研磨機(jī)工作原理的分析可知;研磨開始階段因有工件的原始粗鍵度及幾何形狀誤差，工件與研具接觸面積較小，使磨粒壓下較深。隨著研磨時間增加，磨粒壓下漸淺，通過工件橫截表面的磨粒增多，幾何形狀誤差很快變小而表面光潔度構(gòu)改善也較快。當(dāng)基本消除幾何形狀誤差之后，工件與研具上的磨粒接觸較多，此時磨粒壓下深度較淺，各點切削厚度趨于均勻。研磨時間再長些，則通過工件橫截面磨粒數(shù)量增多，對工件精度的改善則變得緩慢了。超過一定的研磨時間之后，磨粒鈍化得更細(xì)，壓下更淺，切削能力也更低了，并逐漸趨向穩(wěn)定。 對粗研磨來說，為獲得較高的研磨效率，平面研磨機(jī)研磨時問主要應(yīng)根據(jù)磨粒的切削快慢來確定。對精研磨來說，實驗曲線表明，研磨時問在1~3分鐘范周，對研磨效果的改變已變緩，超過3分鐘，對研磨效果的提高沒有顯著變化。