平面拋光研磨機的性能受到哪些挑戰(zhàn)

平面拋光研磨機的性能受到哪些挑戰(zhàn) 平面拋光研磨機適用于各種材料研磨拋光，在光學玻璃、石英晶片、硅片、LED藍寶石襯底等要求超薄工件的領域中作用突出。互聯(lián)網(wǎng)的生活將人們的衣食住行緊緊地聯(lián)系在一起，進而對手機的需求越來越大，而平面拋光研磨機行業(yè)也正在不斷發(fā)展。 然而，隨著對研磨產(chǎn)品的性能要求不斷提高，平面拋光研磨機性能也在不斷受到挑戰(zhàn)。具體來說，石英晶片、硅片等要求厚度越來越薄，為了提高振蕩頻率。而藍寶石襯底片為了利于散熱也在要求厚度變薄，手機零件方面對工件的精度、光潔度要求也越來越高。 總而言之，平面拋光研磨機要應對這些挑戰(zhàn)，廠家一方面要改善設備的各方面性能，另一方面要提高自身的研磨加工技術。

工件的大小對研磨難度的影響

工件的大小對研磨難度的影響 由于大工件在研磨時，所磨的面積比小工件要大很多，所以選擇的研磨盤，壓重塊等肯定也是要大很多的。大面積的工件在固定和加壓時，如果稍微有一點點受力不均勻，所受到的張力也就越大，容易產(chǎn)生斷裂。而小工件，這種壓力點不均勻的概率遠遠低于大尺寸工件，并且小工件平放受壓時所受張力沒那么大，不容易碎。 其次，我們進行對比論證：400mm直徑的工件和30mm直徑的工件同時放在研磨拋光機上進行研磨，面積小的比面積大的受力均勻，切削速度也要快一倍。而面積大的工件，磨削過程中由于受力面廣，效果不均勻的概率要大，所以更加難以實現(xiàn)效果。 后，我們舉一個實際的例子來進行后說明：我們從實驗室拿兩塊厚度均等的硅片來做實驗，硅片1，直徑500mm厚度1mm，硅片2，直徑20mm，厚度1mm，將他們同時放到13-6B雙面研磨機上進行研磨。要求效果：平面度2u,平行度：2u，鏡面效果。開啟設備后，采用相同的研磨耗材對兩塊工件同時研磨，在研磨10分鐘后，硅片1，表面三項指標均為達到；硅片2，達到。 由此三點，我們得出大小工件研磨難度有著很大差異性。在研磨要求均等的情況下，大工件較難實現(xiàn)一些，且所花的時間更長一些。而小工件則較易實現(xiàn)，研磨效率也要高于大尺寸工件。

平面拋光機出現(xiàn)塑性磨損的原因分析

平面拋光機出現(xiàn)塑性磨損的原因分析 平面拋光機在加工工件的時候整體的拋光運動需要時平穩(wěn)的，需要保證工匠能夠均勻的接觸拋光盤表面；需要避免運動軌跡過早的出現(xiàn)重復現(xiàn)象；拋光運動需要選取的運動拋光速度；研具和工件之間需要處于浮動的狀態(tài)；需要保證工件能夠受到均勻拋光。那么平面拋光機在加工工件的時候是什么原因?qū)е滤苄阅p呢？ 一、當磨削在高溫的作用下，磨粒會出現(xiàn)塑性磨損的現(xiàn)象，因為工件材料本身就熱硬度的，在磨削的時候應接觸產(chǎn)生高溫，后就會產(chǎn)生塑性變形。 二、在高溫的狀態(tài)下硬度戶比較高，模具具有比較大的抗塑性磨損能力，在加上金剛石具有很大的塑性強度，在高溫條件下會產(chǎn)生比較大的塑性流動能力。 三、磨粒的表面出現(xiàn)塑性的流動，并不是平面拋光機設備本身多纏身的，而是在磨損的過程中所具有的特征和形態(tài)。