平面研磨機和平面拋光機的差別

平面研磨機和平面拋光機的差別論 平面研磨機和平面拋光機都是表面處理行業(yè)常用到的設(shè)備，雖然這兩者都是適用于平面的工件，但還是有很多不同的，接下來就從以下幾個方面來闡述它們之間的差別。 首先是用途上的差別，平面研磨機主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。而平面拋光機是處理平面工件的塌邊現(xiàn)象，平滑，斑點，祛除工件表面的劃痕，完成超精密加工使工件表面光滑以達(dá)到鏡面效果。 其次是工作原理的差別，平面研磨機為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。而平面拋光機是通過發(fā)動機帶動磨盤轉(zhuǎn)動，并和在磨盤上自轉(zhuǎn)的工件產(chǎn)生摩擦，運用摩擦產(chǎn)生切削力，將工件表面凹凸不平的地方磨平，來達(dá)到拋光目的。 很多對平面研磨機和平面拋光機分不清的朋友看完這篇文章應(yīng)該有所了解，明白這兩者的區(qū)別有哪些。平面研磨機和平面拋光機是表面處理的美化師，為我們呈現(xiàn)眾多不同的表面美觀的工件。

手機表面處理用研磨機研磨拋光的優(yōu)勢

手機表面處理用研磨機研磨拋光的優(yōu)勢 隨著網(wǎng)絡(luò)時代的便捷化，幾乎每個人都擁有一部手機，如今我們的生活對手機的依耐性越來越大，出門靠一部手機就可以購物、旅游。手機更新?lián)Q代的頻率也非常快，手機用戶對手機的外觀追求也越來越高，像華為、蘋果等手機品牌對手機表面的外觀設(shè)計愈加注重。說到手機表面就需要研磨機的處理拋光，下面我們就來看看研磨機在手機表面處理上有哪些優(yōu)勢？ 優(yōu)勢一：研磨機的操作十分簡單，不需要像傳統(tǒng)行業(yè)耗費大量人力，提高工作效率，降低了手機生產(chǎn)商的生產(chǎn)成本。 優(yōu)勢二：研磨機可以研磨加工各種高耐磨的手機材料，研磨性能十分廣泛。 優(yōu)勢三：研磨機在研磨工作十分嚴(yán)密，可以在研磨手機配件材料時準(zhǔn)確的研磨拋光，減少手機材料的損耗。 優(yōu)勢四：由于研磨機設(shè)備的設(shè)計的合理性，工作人員只要正確的操作研磨機，不用擔(dān)心在進(jìn)行手機表面處理過程中出現(xiàn)安全故障。

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了 研磨拋光，切割前應(yīng)對其定向，確定切割面，切割時首先將鋸片固定好，被切晶體材料固定好，切割速度選擇好，切割時不能不用切割液，它不僅能沖洗鋸片，而且還能減少由于切割發(fā)熱對晶體表面產(chǎn)生的損害，切割液還能沖刷切割區(qū)的晶體碎渣。 切割下來的晶片，要進(jìn)入下一道工序研磨。首先要用測厚儀分類測量晶片的厚度進(jìn)行分組，將厚度相近的晶片對稱粘在載料塊上。粘接前，要對晶片的周邊進(jìn)行倒角處理。粘片時載料塊溫度不易太高，只要固定臘溶化即可，晶片擺放在載料塊的外圈，粘片要對稱，而且要把晶片下面的空氣排凈（用鐵塊壓實）。防止產(chǎn)生載料塊不轉(zhuǎn)和氣泡引發(fā)的碎片的現(xiàn)象。在研磨過程中適時測量減薄的厚度，直到工藝要求的公差尺寸為止。 使用研磨拋光機前要將設(shè)備清洗干凈，同時為保證磨盤的平整度，每次使用前都要進(jìn)行研盤，研盤時將修整環(huán)和磨盤自磨，選用研磨液要與研磨晶片的研磨液相同的磨料進(jìn)行，每次修盤時間10分鐘左右即可。只有這樣才能保證在研磨時晶片表面不受損傷，達(dá)到理想的研磨效果。 拋光前要檢查拋光布是否干凈，拋光布是否粘的平整，一定要干凈平整。進(jìn)行拋光時，拋光液的流量不能小，要使拋光液在拋光布上充分飽和，一般拋光時間在一小時以上，期間不停機，因為停機，化學(xué)反應(yīng)仍在進(jìn)行，而機械摩擦停止，造成腐蝕速率大于機械摩擦速率，而使晶片表面出現(xiàn)小坑點。 設(shè)備的清洗非常重要，清洗是否干凈將直接影響磨、拋晶片的質(zhì)量。每次研磨或拋光后，都要認(rèn)真將設(shè)備里外清洗干凈。

平面研磨機研磨盤的目數(shù)代表的含義介紹

關(guān)于平面研磨機研磨盤的目數(shù)代表的含義介紹 隨著平面研磨機使用范圍越來越廣泛，但許多剛剛接觸這行業(yè)的人并不了解什么是研磨盤的目數(shù)代表的是什么意思。下面就來簡單介紹一下！ 在單位面積內(nèi)，研磨顆粒的顆粒數(shù)，指的是研磨盤內(nèi)顆粒的大小。比如說80目、200目、300目、600目等等。目數(shù)值越大，代表的是顆粒細(xì)微程度越小，研磨出的越細(xì)膩，從而讓產(chǎn)品表面粗糙度更細(xì)膩，達(dá)到平面效果，按產(chǎn)品種類再使用拋光皮或者拋光布進(jìn)行拋光，便能呈現(xiàn)出精密的鏡面效果。 這時候，很多人就會有疑問，那都用高目數(shù)的就好了。低目數(shù)沒什么作用了嗎。其實并不然，因為平面研磨機治具上放上許多產(chǎn)品，然而有的產(chǎn)品與產(chǎn)品的厚度相差幾個絲，這時便能用目數(shù)較大的研磨盤進(jìn)行開粗，使得平面研磨機的研磨時間縮短，增加效益。